Deposição de partículas de metal em nanobastões semicondutores usando um líquido iônico

Título	Deposição de partículas de metal em nanobastões semicondutores usando um líquido iônico
Autores	Michael D. Ballentine, Elizabeth G. Embry, Marco A. Garcia, Lawrence J. Hill
Revista	Revista Beilstein de Nanotecnologia
data	03/14/2019
Doi	10.3762/bjnano.10.71
Introdução	Este estudo examina a deposição de partículas de metal em nanobastões semicondutores usando um líquido iônico, concentrando-se em seu impacto no desempenho catalítico. Nanopartículas de platina, ouro e prata foram depositadas com sucesso em nanobastões de CdSe@CdS (core@shell) usando sais metálicos em um líquido iônico sem a necessidade de surfactantes ou agentes redutores adicionais. Os testes de degradação de corantes fotocatalíticos revelaram que os catalisadores com partículas de platina depositadas por meio de líquido iônico superaram os sintetizados com solventes orgânicos e ligantes. A pesquisa conclui que as partículas metálicas podem ser depositadas com eficiência em nanobastões semicondutores bem definidos usando líquidos iônicos e sais metálicos, evitando a agregação significativa mesmo em meios orgânicos. Esse método possibilita a preparação de uma ampla variedade de partículas heteroestruturadas de metal/semicondutor.
Citação	Michael D Ballentine, Elizabeth G Embry e Marco A. C. Garcia et al. Deposition of metal particles onto semiconductor nanorods using an ionic liquid. Beilstein J Nanotechnol. 2019. DOI: 10.3762/bjnano.10.71
Elemento	Platina (Pt) , Selênio (Se) , Prata (Ag) , Enxofre (S)
Materiais	Nanocompósitos
Indústria	Pesquisa e laboratório