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  • Alvo de pulverização
  • ST0035 Alvo de Sputtering de Platina (Pt)

    • ST0035 Alvo de Sputtering de Platina (Pt)

    Número de catálogo. ST0035
    Composição Pt
    Número CAS 7440-06-4
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou personalizados
    Diâmetro 2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura 0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título Cobre ou personalizado
    Sinônimos Alvo de pulverização de platina, alvo de Pt

    A Stanford Advanced Materials (SAM) oferece alvos de pulverização de platina (Pt) de alta pureza (≥99%) projetados para processos exigentes de deposição de filmes finos. A excepcional estabilidade química e a resistência à oxidação da platina fazem dela a escolha preferida para aplicações de fabricação de semicondutores, microeletrônica e pesquisa avançada. Nossos alvos de sputtering de Pt são fabricados por meio de fusão a vácuo e usinagem de precisão para obter uma estrutura de grão fino e alta densidade, garantindo um desempenho consistente de sputtering e deposição uniforme de filme. Disponíveis em geometrias de disco padrão ou configurações personalizadas, com opções de ligação de cobre para gerenciamento térmico otimizado durante a pulverização catódica.

    Produtos relacionados: Alvo de pulverização de ródio (Rh), Alvo de pulverização de paládio (Pd), Alvo de pulverização de irídio (Ir)

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    FAQ

    P: Qual é a diferença entre os alvos de sputtering de platina e Pt?

    A: Eles são o mesmo material. "Pt" é o símbolo químico da platina. Ambos os termos se referem aos nossos alvos de pulverização de platina de alta pureza.

    P: Qual é o prazo de entrega de um alvo de sputtering de platina personalizado?

    A: O prazo de entrega típico para tamanhos personalizados é de 2 a 3 semanas após a confirmação do pedido. Os tamanhos de disco padrão (2"-6") podem ser enviados antes. Entre em contato conosco para saber o status atual do estoque.

    P: Vocês recomendam a colagem de alvos Platinum em uma placa de apoio?

    A: Para pulverização catódica em densidades de potência mais altas, recomendamos a ligação a uma placa de apoio de cobre usando índio ou elastômero para melhorar o gerenciamento térmico e evitar rachaduras no alvo.

    P: Qual é a diferença entre alvos de Pt com 99% e 99,99% de pureza?

    A: A pureza de 99% é adequada para a maioria dos revestimentos ópticos e decorativos. A pureza de 99,99% (4N) é recomendada para aplicações de semicondutores e de pesquisa avançada, nas quais os elementos residuais podem afetar o desempenho do filme.

    P: Você pode fornecer a taxa de pulverização típica do seu alvo de platina?

    A: As taxas de pulverização dependem de sua ferramenta e parâmetros específicos. Nossa equipe técnica pode fornecer taxas de referência com base no tamanho do alvo e na fonte de alimentação. Inclua os detalhes do seu sistema em sua consulta.

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