AL10242 Wafer de safira Al2O3 plano C (0001) 10x10x1 mm

Wafer de safira Al2O3 plano C (0001) 10x10x1 mm Descrição

O wafer de safira Al2O3 C-plane (0001) 10x10x1 mm é fabricado com óxido de alumínio de alta pureza (Al2O3) com orientação confirmada (0001), oferecendo uma superfície atomicamente lisa. As dimensões de 10x10 mm e a espessura de 1 mm garantem a compatibilidade com o equipamento padrão de processamento de semicondutores. A baixa densidade de defeitos na superfície e o alinhamento preciso dos cristais facilitam os processos de deposição subsequentes e a precisão da fabricação de dispositivos.

Wafer de safira Al2O3 plano C (0001) 10x10x1 mm Aplicações

1.
Eletrônica
- Usado como substrato em dispositivos semicondutores para obter deposição controlada de filme, aproveitando a orientação uniforme do plano C (0001) do wafer.
- Aplicado como base para transistores de filme fino em sistemas de exibição para manter a consistência na uniformidade da camada e melhorar o desempenho do dispositivo.

2.
Industrial
- Usado como camada isolante em módulos de sensores de alta temperatura para reduzir as incompatibilidades de expansão térmica, aproveitando a composição estável do Al2O3.
- Aplicado na fabricação de componentes ópticos de precisão para apoiar o alinhamento preciso e minimizar a dispersão da superfície devido à sua baixa densidade de defeitos.

Wafer de safira Al2O3 plano C (0001) 10x10x1 mm Embalagem

O wafer é embalado em um suporte antiestático revestido de espuma dentro de um recipiente selado para proteger contra danos físicos e contaminação. Ele é armazenado em condições controladas e secas em temperatura ambiente para evitar a degradação relacionada à umidade. Soluções de embalagem personalizadas, incluindo bolsas seladas a vácuo e rotulagem específica para cada lote, estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio e transporte.

Perguntas frequentes

P1: Qual é o impacto da orientação do plano C (0001) na fabricação de dispositivos?
R1: A orientação do plano C (0001) proporciona uma superfície atomicamente lisa que melhora a adesão do filme fino e reduz a dispersão durante a deposição, melhorando o desempenho geral do dispositivo.

P2: Como as dimensões do wafer influenciam sua integração aos equipamentos de processamento existentes?
A2: O tamanho padronizado de 10x10 mm e a espessura de 1 mm garantem a compatibilidade com ferramentas comuns de processamento de semicondutores, facilitando o manuseio eficiente durante a fabricação e o alinhamento em vários sistemas de deposição.

P3: Quais medidas de controle de qualidade são implementadas durante a produção do wafer?
R3: O wafer passa por uma inspeção rigorosa que inclui microscopia de força atômica e avaliação óptica para avaliar a rugosidade da superfície e detectar microdefeitos, garantindo a consistência das propriedades do substrato.

Informações adicionais

Os wafers de safira, compostos de Al2O3, são valorizados na ciência dos materiais por sua excelente resistência térmica e química. Sua estrutura permite o controle preciso da morfologia da superfície, o que é fundamental para dispositivos de alto desempenho em eletrônica e óptica. Os pesquisadores geralmente utilizam esses substratos para estudos avançados de deposição de filmes devido às suas propriedades cristalinas estáveis.

A compreensão da interação entre a orientação do cristal e as propriedades do material proporciona benefícios perspicazes na seleção de substratos para várias aplicações. Os avanços nas técnicas de deposição e análise de superfície continuam a refinar os recursos de desempenho das pastilhas de safira, impactando uma série de campos tecnológicos, da microeletrônica à fotônica.