AL10251 Wafer de safira Al2O3 M plano 5x5x0,5 mm

Wafer de safira Al2O3 M plano 5x5x0,5 mm Descrição

O wafer de safira Al2O3 plano M 5x5x0,5 mm é um substrato monocristalino de óxido de alumínio usado para aplicações de substrato de cristal na fabricação de semicondutores e optoeletrônicos. A orientação controlada do plano M proporciona uma superfície uniformemente lisa, ideal para integração com equipamentos de processamento padrão. As dimensões permitem a compatibilidade com ferramentas convencionais de deposição e gravação, enquanto as propriedades intrínsecas de condutividade térmica e isolamento elétrico auxiliam no isolamento do dispositivo e na estabilidade do processo em alta temperatura.

Wafer de safira Al2O3 M plano 5x5x0,5 mm Aplicações

Eletrônicos
- Uso como substrato em telas de LED para obter um gerenciamento térmico eficaz, utilizando a alta condutividade térmica inerente da safira.
- Aplicada como barreira dielétrica em circuitos de alta frequência para reduzir a interferência de sinais, empregando seu excelente isolamento elétrico.

Industrial
- Usada como janela óptica em sensores ambientais para manter o monitoramento estável, aproveitando sua superfície resistente a arranhões.
- Aplicado como camada isolante em sistemas eletrônicos de potência para manter a separação elétrica usando suas propriedades isolantes inerentes.

Wafer de safira Al2O3 M plano 5x5x0,5 mm Embalagem

Os wafers são embalados individualmente em bolsas antiestáticas com barreira contra umidade e presos em contêineres revestidos de espuma para minimizar danos mecânicos e contaminação da superfície. Elas devem ser armazenadas em um ambiente com temperatura controlada e baixa umidade para evitar a oxidação. A embalagem inclui filmes protetores e pode ser personalizada com rotulagem e compartimentação específicas, mediante consulta técnica, para atender a requisitos precisos de armazenamento e manuseio.

Perguntas frequentes

P1: Como a orientação do plano M é confirmada durante a produção?
R1: A orientação do plano M é verificada por meio de difração de raios X e microscopia eletrônica de varredura. Esses métodos avaliam o alinhamento cristalográfico e a qualidade da superfície, garantindo que o substrato atenda aos rigorosos padrões de processamento.

P2: Quais são as condições de armazenamento recomendadas para esses wafers?
A2: Recomenda-se armazenar os wafers em um ambiente seco e com temperatura controlada, com o mínimo de exposição à poeira. O uso de embalagens antiestáticas e filmes de barreira contra umidade ajuda a evitar a contaminação e a degradação da superfície.

P3: Há opções de personalização disponíveis para as dimensões ou a orientação do wafer?
R3: As opções de personalização podem ser discutidas com base nas capacidades de produção. Consultas técnicas são realizadas para determinar se modificações específicas nas dimensões ou na orientação podem ser alcançadas sem alterar as propriedades intrínsecas do substrato.

Informações adicionais

As pastilhas de safira, compostas exclusivamente de óxido de alumínio (Al2O3), são amplamente estudadas na ciência dos materiais por sua excelente transparência óptica e resistência mecânica. Sua estrutura cristalina e orientações de superfície controladas, como o plano M, permitem a integração em vários processos semicondutores e optoeletrônicos.

No contexto mais amplo de materiais avançados, os substratos de safira desempenham um papel crucial em ambientes de alta temperatura e eletricamente exigentes. A pesquisa continua a se concentrar na otimização dos processos de crescimento e tratamentos de superfície, melhorando assim sua compatibilidade com as tecnologias de fabricação emergentes em várias aplicações industriais e de pesquisa.