AL10271 Wafer de safira Al2O3 A plano (11-20) 0,25 polegada x 0,25 polegada x 0,5 mm

Wafer de safira Al2O3 plano A (11-20) 0,25 polegada x 0,25 polegada x 0,5 mm Descrição

O wafer de safira Al2O3 plano A (11-20) de 0,25 polegada x 0,25 polegada x 0,5 mm é fabricado com óxido de alumínio de alta pureza (Al2O3) produzido com controle preciso sobre a orientação do plano A. Suas dimensões garantem a compatibilidade com o equipamento de processamento padrão usado na fabricação de semicondutores e dispositivos ópticos. A orientação cristalográfica do plano A (11-20) é crucial para aplicações que exigem propriedades de superfície controladas e estabilidade dimensional.

Wafer de safira Al2O3 Plano A (11-20) 0,25 polegada x 0,25 polegada x 0,5 mm Aplicações

1.processamento de eletrônicos e semicondutores
- Usada como substrato em sistemas de deposição de filme fino para obter um crescimento uniforme do filme, aproveitando sua superfície cristalina bem definida.
- Aplicado como base para componentes microeletrônicos para manter a estabilidade dimensional durante o processamento em alta temperatura.

2.optoeletrônica e fabricação de sensores
- Serve como plataforma na fabricação de LEDs para aumentar a eficiência da extração de luz utilizando sua superfície lisa e cristalina.
- Usado em aplicações de sensores para fornecer uma barreira quimicamente inerte que preserva a integridade do sinal sob condições ambientais variáveis.

Wafer de safira Al2O3 A plano (11-20) 0,25 polegada x 0,25 polegada x 0,5 mm Embalagem

O wafer é embalado em um contêiner limpo e antiestático revestido com espuma para atenuar os choques mecânicos. Ela é presa em compartimentos individuais para evitar a contaminação cruzada. As recomendações de armazenamento incluem um ambiente seco, com temperatura estável e exposição mínima a partículas. Opções de embalagens personalizadas com amortecimento e rotulagem adicionais estão disponíveis para atender a protocolos específicos de manuseio e armazenamento.

Perguntas frequentes

P1: Como a orientação cristalográfica é verificada nesses wafers?
R1: O controle de qualidade é feito por meio de microscopia eletrônica de varredura e difração de raios X. Esses métodos confirmam a orientação do plano A (11-20) e verificam a ausência de defeitos superficiais significativos, garantindo a consistência dimensional.

P2: Quais são as condições críticas de manuseio necessárias para esses substratos?
A2: Os wafers devem ser manuseados em ambientes de sala limpa com precauções antiestáticas. Eles devem ser armazenados em locais secos e com temperatura controlada para evitar contaminação da superfície e tensões mecânicas.

P3: Esses wafers podem ser integrados ao equipamento padrão de processamento de semicondutores?
R3: Sim, as dimensões e a consistência do material desses wafers garantem a compatibilidade com as ferramentas padrão de fabricação de semicondutores, permitindo a integração em fluxos de processos estabelecidos sem modificações significativas.

Informações adicionais

A safira, ou Al2O3 cristalino, é um material essencial em aplicações eletrônicas e ópticas avançadas devido à sua estabilidade química e excelentes propriedades mecânicas. Suas características de condutividade térmica e isolamento elétrico a tornam adequada para aplicações de alta temperatura e alta frequência. Compreender a interação entre a orientação cristalográfica e as propriedades do material é fundamental para otimizar o desempenho do dispositivo em ambientes industriais e de pesquisa.
Os estudos em ciência dos materiais enfatizam a importância do controle da orientação cristalina, que afeta diretamente as propriedades da superfície e os resultados do processamento na fabricação de semicondutores e optoeletrônicos.