AL10305 Modelo de nitreto de alumínio polido em um lado sobre safira (0001) Filme de AlN de 4 polegadas x 0,5 mm 5000nm

Modelo de nitreto de alumínio polido em um lado sobre safira (0001) Filme de AlN de 4 polegadas x 0,5 mm 5000nm Descrição

Esse substrato é composto por um filme de nitreto de alumínio depositado em uma plataforma de safira (Al2O3) com um polimento de um lado que minimiza a rugosidade da superfície. O diâmetro de 4 polegadas e a espessura de 0,5 mm garantem a compatibilidade com o equipamento padrão de fabricação de semicondutores, enquanto a espessura do filme de 5000 nm oferece suporte à condução térmica eficiente e à integridade mecânica. As análises de XRD e SEM verificam a estrutura cristalina e a morfologia da superfície, proporcionando confiança em seu desempenho para aplicações de precisão.

Modelo de nitreto de alumínio polido em um lado sobre safira (0001) Filme de AlN de 4 polegadas x 0,5 mm 5000nm Aplicações

1.fabricação de eletrônicos
- Uso como componente de substrato em dispositivos LED para obter melhor dispersão de calor, aproveitando sua alta condutividade térmica.
- Aplicado como uma camada dielétrica em componentes de RF para otimizar o desempenho do sinal por meio de sua superfície polida e lisa.

2.tecnologia de sensores industriais
- Serve como base para sensores de alta temperatura para obter uma operação estável, utilizando sua estabilidade cerâmica.
- Usado como parte integrante de módulos de energia para apoiar o gerenciamento térmico por meio de sua estrutura de filme consistente.

Modelo de nitreto de alumínio polido em um lado sobre safira (0001) Embalagem de filme de AlN de 5000 nm de 4 polegadas x 0,5 mm

O substrato é embalado em um recipiente antiestático revestido de espuma com uma barreira contra umidade para evitar danos mecânicos e eletrostáticos. Ele é armazenado sob temperatura e umidade controladas para manter a integridade do material. Opções adicionais de personalização, incluindo camadas protetoras sob medida e rotulagem individual, estão disponíveis para atender a requisitos especializados de manuseio e logística para aplicações eletrônicas sensíveis.

Perguntas frequentes

P1: Como é garantido o acabamento da superfície do substrato?
R1: O substrato passa por uma inspeção completa de SEM e análise de XRD durante a produção. Isso garante a mínima rugosidade da superfície e confirma o alinhamento uniforme do filme de AlN, o que é essencial para a integração de dispositivos de alto desempenho.

P2: Quais controles de processamento contribuem para o seu desempenho térmico?
A2: A deposição do filme de AlN é cuidadosamente controlada para atingir uma espessura uniforme de 5000 nm. Essa camada, juntamente com a base de safira, proporciona uma dissipação de calor eficaz e mantém a estabilidade estrutural sob estresse operacional.

P3: As dimensões do substrato podem ser personalizadas para aplicações exclusivas?
R3: Sim, a SAM oferece ajustes nas dimensões do substrato e na espessura do filme com base nos requisitos específicos do dispositivo. Essa flexibilidade permite a integração com diversos processos de fabricação de semicondutores, mantendo as propriedades térmicas e mecânicas essenciais.

Informações adicionais

Substratos cerâmicos, como filmes de nitreto de alumínio sobre safira, são essenciais em aplicações que exigem alta condutividade térmica e isolamento elétrico. A combinação de AlN e Al2O3 garante um equilíbrio entre o gerenciamento térmico e a integridade estrutural, o que é fundamental para circuitos eletrônicos de alta densidade e dispositivos optoeletrônicos.

Os avanços nas técnicas de deposição e metrologia de superfície aumentaram a precisão dos substratos de cerâmica. Compreender a interação entre a microestrutura e as propriedades térmicas é fundamental para otimizar o desempenho em ambientes de fabricação exigentes, ressaltando ainda mais a importância do controle de qualidade sistemático na engenharia de materiais.