CY11163 Wafer de silício revestido de alumínio (Al)

Descrição do wafer de silício revestido de alumínio (Al)

O wafer de silício revestido de alumínio (Al) é um substrato de silício que incorpora um filme fino de alumínio por meio de deposição em fase de vapor. O processo de revestimento controlado aprimora as características de superfície essenciais para o processamento de semicondutores. A camada de alumínio atua como um condutor elétrico e uma barreira protetora contra a oxidação, o que melhora o processamento do dispositivo e o desempenho operacional geral em ambientes de microfabricação.

Características do wafer de silício revestido de alumínio (Al)

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Aplicações de wafer de silício revestido de alumínio (Al)

1.fabricação de semicondutores
- Usado como um componente essencial na fabricação de CIs para aprimorar as interfaces de metalização, aproveitando a camada de alumínio condutor.
- Aplicado como substrato de base em sistemas avançados de litografia para obter deposição uniforme de material e estabilidade de processo.

2.microeletrônica
- Serve como uma plataforma de wafer na fabricação de dispositivos microeletrônicos para melhorar o desempenho da interconexão elétrica por meio do revestimento de alumínio.
- Frequentemente usado para conjuntos de sensores em que são necessárias propriedades de superfície consistentes para garantir a resposta precisa do sinal e a longevidade do dispositivo.

Embalagem de wafer de silício revestido de alumínio (Al)

Os wafers são embalados em transportadores antiestáticos e selados em bolsas limpas e resistentes à umidade para evitar contaminação. Esses contêineres são ainda amortecidos com inserções de espuma, garantindo o mínimo de estresse no manuseio durante o transporte. A embalagem é projetada para atender aos rigorosos padrões de sala limpa e pode ser personalizada com rotulagem e compartimentação específicas para facilitar o armazenamento seguro e o manuseio.

Informações adicionais

Os wafers de silício continuam sendo um componente fundamental na fabricação de semicondutores devido às suas excelentes propriedades térmicas e elétricas. A integração de um revestimento de alumínio melhora a funcionalidade ao fornecer uma camada condutora que também serve como barreira contra a oxidação, o que é essencial para manter o desempenho durante o processamento em alta temperatura.

Técnicas avançadas de deposição, como sputtering e métodos de fase de vapor, permitem o controle preciso da espessura e da uniformidade da camada. Esses processos contribuem para a reprodutibilidade e a eficiência necessárias para a fabricação de dispositivos microeletrônicos complexos, garantindo a compatibilidade com protocolos e equipamentos padrão do setor.