CY8297 Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, plano A de Al2O3 (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, plano A de Al2O3 (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Descrição

Esse substrato de cristal de safira de óxido de alumínio (Al₂O₃) plano A (11-20) de alta pureza oferece excepcional resistência mecânica, estabilidade química e resistência ao calor em um wafer projetado com precisão. Medindo 50,8 mm de diâmetro com uma espessura de 0,5 mm, ele fornece uma plataforma uniforme para o crescimento epitaxial, permitindo resultados consistentes em aplicações exigentes de semicondutores, optoeletrônicos e dispositivos ópticos avançados. O substrato de plano A cuidadosamente orientado aprimora o alinhamento dos cristais, garantindo a deposição precisa da camada e o desempenho aprimorado do dispositivo.

Fabricado de acordo com rigorosos padrões de qualidade, cada substrato passa por meticulosos processos de polimento e inspeção para proporcionar uma superfície ultralisa com o mínimo de defeitos. Sua durabilidade e condutividade térmica o tornam ideal para processos de alta temperatura, incluindo a produção de LEDs e a fabricação de dispositivos baseados em GaN. Confie nesse substrato de safira para obter resultados confiáveis e repetíveis e ultrapassar os limites da pesquisa e do desenvolvimento de ponta.

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 A-Plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Aplicações

Substratos de cristal de safira de óxido de alumínio, especificamente Al2O3 A-Plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm, oferecem excepcional resistência mecânica, estabilidade química e condutividade térmica. Com uma estrutura cristalina impecável e uma superfície uniforme, esses substratos oferecem precisão e confiabilidade superiores. Sua ampla faixa de transparência óptica e excelentes propriedades de isolamento os posicionam como uma das principais opções para várias aplicações industriais, comerciais e de pesquisa.

1. Aplicações industriais

- Ferramentas e acessórios de alta temperatura: Sua excepcional estabilidade térmica e dureza garantem um desempenho confiável em condições extremas.

- Wafers de fabricação de LEDs: Aproveitamento de baixas densidades de defeitos e substratos robustos para emissão eficiente de luz.

2. Aplicações de pesquisa

- Estudos ópticos avançados: Exploração de excelente transparência e superfícies uniformes para experimentos de espectroscopia e fotônica.

- Pesquisa quântica e spintrônica: Aproveitamento da alta precisão estrutural para a fabricação de dispositivos de última geração.

3. Aplicações comerciais

- Mostradores de relógio duráveis e tampas de lentes de câmeras: Aproveitamento da excelente resistência a arranhões e da clareza.

- Componentes de imagens médicas: Proporcionam excelente estabilidade química e qualidade óptica para resultados precisos de geração de imagens.

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 plano A (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Embalagem

Cada substrato de cristal de safira de óxido de alumínio é selado individualmente em uma bolsa antiestática compatível com salas limpas e, em seguida, amortecido com inserções de espuma para evitar danos. Armazene em um ambiente com baixa umidade e temperatura controlada para manter a integridade do cristal e minimizar os riscos de contaminação. Uma camada protetora interna protege contra partículas transportadas pelo ar e umidade. Opções de embalagem personalizadas, incluindo sacos selados a vácuo ou inserções especializadas, estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio, transporte ou armazenamento.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 plano A (11-20) Diâm. 50,8 mm x 0,5 mm Perguntas frequentes

Q1: Quais são as principais propriedades do material do substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 A-Plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm ?

A1: Esse substrato é um wafer de óxido de alumínio (safira) monocristalino que apresenta a orientação do plano A (11-20). Ele apresenta alta dureza mecânica (9 na escala de Mohs), excelente transparência óptica nas faixas visível e infravermelha e excelente estabilidade química. Com uma baixa constante dielétrica e condutividade térmica robusta, ele suporta processos de alta temperatura. O diâmetro é de 50,8 mm e a espessura é de 0,5 mm, garantindo espessura uniforme para aplicações científicas ou industriais.

P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado?

A2: Esse substrato de safira deve ser manuseado com luvas de látex ou nitrilo para evitar a contaminação por partículas e evitar o contato direto com óleos. Use ferramentas não abrasivas, como pinças de plástico ou de teflon, para minimizar os danos à superfície. Transporte e armazene os substratos em contêineres limpos e secos com compartimentos acolchoados para evitar arranhões. Evite expô-los a mudanças bruscas de temperatura para evitar choque térmico. Inspeções regulares e limpeza cuidadosa com solventes apropriados garantem a durabilidade a longo prazo.

Q3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 A-Plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm ?

R3: Esses substratos estão em conformidade com as rigorosas normas ISO e do setor para pureza do cristal, precisão dimensional e planicidade da superfície. Muitos fornecedores aderem à ISO 9001 para gerenciamento de qualidade, garantindo processos de produção rastreáveis. Certificações especializadas, como a ASTM E595 para desgaseificação, podem ser aplicadas quando usadas em aplicações a vácuo ou aeroespaciais. Os protocolos de metrologia verificam as tolerâncias de orientação, a limpeza da superfície e os defeitos mínimos para atender aos rigorosos requisitos de desempenho.

Informações relacionadas

1. Padrões e certificações do setor

A adesão a diretrizes rigorosas é essencial para os substratos de cristal de safira e óxido de alumínio, como o A-plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm, sejam reconhecidos pelo desempenho consistente e pela confiabilidade. A conformidade com as estruturas ISO 9001 confirma um ambiente de fabricação bem controlado, garantindo que cada substrato atenda às tolerâncias precisas de orientação e às especificações de espessura. Além disso, as certificações especializadas geralmente exigem uma avaliação rigorosa da planicidade, da rugosidade da superfície e da qualidade cristalina, que são vitais para o funcionamento bem-sucedido do substrato em aplicações de alto risco.

Como esse substrato de cristal de safira específico foi projetado para processos ópticos e eletrônicos exigentes, é fundamental atender aos padrões do setor, como o SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International). Essas normas definem critérios específicos para a precisão da orientação e os níveis de tensão residual, ajudando os fabricantes a fornecer um produto consistentemente robusto. Ao se alinhar com esses padrões de referência validados, o substrato do plano A (11-20) ganha aceitação em setores de ponta que exigem níveis exatos de qualidade, uniformidade e rastreabilidade do produto.

2. Aplicações em setores avançados

As empresas de ponta aproveitam a excepcional resistência mecânica e a estabilidade térmica desse substrato A-plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm para fabricação de dispositivos optoeletrônicos e de energia de alta velocidade. Sua orientação cristalina exclusiva e os mínimos defeitos de superfície permitem que os pesquisadores desenvolvam lasers, sensores e circuitos integrados fotônicos com precisão notável. A alta classificação de dureza da safira também suporta camadas delicadas de película fina que podem suportar condições operacionais intensas, estabelecendo uma base sólida para dispositivos que exigem funcionalidade confiável e de longo prazo.

Os desenvolvimentos em óptica ultravioleta (UV) também se beneficiam da excelente transparência desse substrato em uma ampla faixa espectral. Ferramentas cirúrgicas avançadas e sistemas de diagnóstico por imagem dependem de sua clareza óptica superior para obter resultados precisos e manter um desempenho consistente. Além disso, os protocolos de teste de semicondutores geralmente envolvem ciclos térmicos rigorosos, que são gerenciados com eficiência pela excepcional condutividade térmica do cristal. Esses atributos tornam o substrato do plano A (11-20) um ativo essencial para os setores globais que buscam ampliar os limites da tecnologia sem comprometer a qualidade ou a resistência.