CY8300 Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Descrição

Fabricados com óxido de alumínio de qualidade superior, esses substratos de cristal de safira de plano M (Al2O3) medem 50,8 mm de diâmetro e 0,5 mm de espessura. A excepcional dureza, a inércia química e a alta estabilidade térmica da safira tornam esses substratos ideais para aplicações exigentes em optoeletrônica, pesquisa de semicondutores e tecnologia avançada de sensores. A orientação do plano M oferece propriedades exclusivas de crescimento epitaxial que permitem o controle preciso da qualidade do filme e da tensão do material.

Cada substrato passa por um polimento e uma inspeção rigorosos para garantir o mínimo de defeitos na superfície e uma orientação cristalográfica consistente. Esse meticuloso processo de controle de qualidade garante um desempenho uniforme, aumentando a confiabilidade do dispositivo. Sejam usados na produção de LEDs, no desenvolvimento de MEMS ou em revestimentos ópticos, esses substratos de safira oferecem desempenho e confiabilidade excepcionais, atendendo aos rigorosos padrões do setor em termos de pureza e reprodutibilidade.

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Aplicações

Os substratos de cristal de safira de óxido de alumínio (Al2O3) com orientação de plano M e 50,8 mm de diâmetro x 0,5 mm de espessura oferecem resistência, inércia química e estabilidade térmica notáveis. Sua dureza superior e transparência óptica fazem deles a escolha ideal para aplicações exigentes em vários setores. Ao aproveitar suas propriedades exclusivas, esses substratos podem melhorar significativamente o desempenho, a durabilidade e a confiabilidade em ambientes que exigem precisão, altas temperaturas e condições ambientais adversas.

1. Aplicações industriais

- Aplicação 1: Ideal para embalagens de eletrônicos de alta potência devido à excelente condutividade térmica e estabilidade química

- Aplicação 2: Adequado para peças mecânicas resistentes ao desgaste em ambientes que exigem extrema dureza

2. Aplicações de pesquisa

- Aplicação 1: substrato preferido para crescimento epitaxial e estudos de filmes finos, permitindo experimentos precisos

- Aplicação 2: Usado em pesquisas ópticas e de laser, beneficiando-se de sua clareza óptica superior e baixa birrefringência

3. Aplicações comerciais

- Aplicação 1: Integrado a painéis de exibição avançados para eletrônicos de consumo, garantindo superfícies robustas e resistentes a arranhões

- Aplicação 2: Utilizado em janelas ópticas para equipamentos especializados, aproveitando sua transparência e durabilidade

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Embalagem

Cada substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, plano M de Al2O3 (50,8 mm de diâmetro, 0,5 mm de espessura) é colocado individualmente em uma bolsa antiestática com espuma protetora para resistência a impactos. As embalagens devem ser armazenadas em um ambiente limpo e com temperatura controlada para evitar a contaminação por umidade ou partículas. Esses substratos podem ser personalizados em termos de quantidade ou rotulagem, e opções adicionais de embalagem estéril estão disponíveis para necessidades especializadas.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Perguntas frequentes

Q1: Quais são as principais propriedades do material do substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm?

A1: Os substratos de safira com plano M de óxido de alumínio (Al2O3) são conhecidos por sua alta dureza, transparência óptica e excelente estabilidade química. Eles apresentam uma dureza Mohs de 9, um amplo bandgap (9 eV) e uma condutividade térmica excepcional (aproximadamente 35 W/m-K). A orientação do plano M oferece propriedades anisotrópicas benéficas para determinados processos de crescimento epitaxial. Esses substratos também oferecem excelente qualidade de superfície, incompatibilidades mínimas de rede e resistência mecânica robusta, o que os torna ideais para aplicações eletrônicas e ópticas de alto desempenho.

P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado?

A2: Manuseie esses substratos de safira plano M com luvas não abrasivas para evitar manchas e minimizar a contaminação por partículas. Evite o contato direto com superfícies duras que possam causar arranhões. Limpe cuidadosamente com solventes apropriados (por exemplo, álcool isopropílico) e certifique-se de que os substratos estejam completamente secos antes do armazenamento. Armazene-os em contêineres de proteção com espuma antiestática ou cassetes de wafer em um ambiente limpo e com baixa umidade para evitar a oxidação e manter a integridade da superfície.

Q3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm ?

R3: Esses substratos de safira são normalmente fabricados sob rigorosos sistemas de gerenciamento de qualidade ISO 9001 para garantir tolerâncias dimensionais, acabamento de superfície e orientação cristalográfica consistentes. Eles também podem estar em conformidade com os padrões ASTM para safira de grau semicondutor, incluindo especificações para densidade de defeitos e inclusões. Os Certificados de Conformidade (CoC) geralmente acompanham cada lote, verificando as especificações do substrato, a precisão da orientação e a qualidade geral para aplicações eletrônicas e fotônicas exigentes.

Informações relacionadas

1. Medidas de controle de qualidade

Protocolos de inspeção precisos são essenciais para verificar a uniformidade e a consistência do substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm. Cada substrato é submetido a uma caracterização meticulosa da superfície para confirmar a orientação do plano M, garantindo o alinhamento da estrutura para aplicações que dependem de interfaces estruturais precisas.

O monitoramento consistente da espessura e da planicidade da superfície também é vital para manter padrões de qualidade confiáveis. Instrumentos de metrologia especializados medem a espessura de 0,5 mm com alta precisão, protegendo contra variações que poderiam comprometer o desempenho do dispositivo em aplicações avançadas de semicondutores e fotônica.

2. Aplicações em setores avançados

Os avanços tecnológicos em optoeletrônica dependem muito de substratos com excepcional estabilidade térmica e mecânica. O substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm atende a essas demandas, oferecendo uma plataforma robusta para a integração de camadas epitaxiais complexas em diodos a laser, sensores e outros dispositivos de precisão.

O uso extensivo em comunicações aeroespaciais e de alta frequência também demonstra a versatilidade inigualável desses substratos. Sua capacidade de resistir a condições operacionais adversas os torna indispensáveis para sistemas de radar de última geração e tecnologias de satélite de ponta, em que o desempenho consistente e a longevidade são fundamentais.