CY8302 Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, plano R de Al2O3 (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, plano R de Al2O3 (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Descrição

Esse substrato de cristal de safira de óxido de alumínio de alta pureza é precisamente orientado ao longo do plano R (1-102) e mede 10 x 10 x 0,5 mm. Reconhecida por sua excepcional dureza e resistência mecânica, a safira oferece excelente condutividade térmica e estabilidade química, o que a torna ideal para aplicações industriais e de pesquisa exigentes. Sua baixa perda dielétrica e clareza óptica superior permitem um desempenho confiável em sensores, sistemas a laser e outros dispositivos de alta precisão.

Cada substrato é submetido a um rigoroso controle de qualidade para garantir uma rugosidade mínima da superfície e uma estrutura cristalina quase perfeita. Nosso abrangente processo de polimento atende aos rigorosos padrões do setor, abrindo caminho para o desempenho ideal do material e a integração eficiente em produtos eletrônicos e optoeletrônicos de última geração. Seja usado na deposição de filmes finos ou na microfabricação avançada, esse substrato de safira meticulosamente trabalhado oferece durabilidade e confiabilidade inigualáveis.

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Aplicações

O substrato de cristal de safira de óxido de alumínio (Al2O3 R-Plane 1-102) é um material cristalino de alta qualidade, valorizado por sua excepcional resistência mecânica, condutividade térmica e estabilidade química. Com uma espessura padrão de 0,5 mm e geometria consistente, esses substratos são ideais para várias aplicações avançadas. Sua clareza óptica e excelentes propriedades dielétricas também os tornam os principais candidatos para pesquisas de ponta e inovações comerciais.

1. Aplicações industriais

- Fabricação de produtos eletrônicos de alta temperatura: A condutividade térmica superior e a estabilidade química do substrato permitem um desempenho confiável em ambientes de calor extremo.

- Revestimentos de proteção resistentes ao desgaste: Sua dureza excepcional reduz a abrasão e os arranhões, resultando em peças industriais mais duradouras.

2. Aplicações de pesquisa

- Estudos de crescimento epitaxial: A orientação do plano R fornece uma estrutura de treliça exclusiva, facilitando a deposição precisa de filmes para pesquisas em ciência dos materiais.

- Desenvolvimento de guias de ondas ópticas: A clareza e a espessura controlada do cristal dão suporte à experimentação em tecnologias avançadas de fotônica e laser.

3. Aplicações comerciais

- Substrato de LED de alto desempenho: As excelentes propriedades de gerenciamento térmico do substrato aumentam a eficiência e a durabilidade dos produtos de iluminação.

- Cristais de relógios de luxo: Sua resistência a arranhões e transparência óptica garantem clareza superior e superfícies duradouras para relógios premium.

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Embalagem

Cada substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm é embalado individualmente em uma bolsa almofadada e resistente à estática para evitar danos. Os substratos selados são colocados em recipientes plásticos robustos para proteção contra contaminantes. Para um armazenamento ideal, mantenha um ambiente seco e com temperatura controlada. Utilize protocolos de sala limpa ao manusear para evitar contaminação. Dimensões de embalagem personalizadas ou opções de rotulagem estão disponíveis mediante solicitação.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Perguntas frequentes

Q1: Quais são as principais propriedades do material do substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm?

R1: Esses substratos de safira de plano R apresentam alta inércia química, excelente condutividade térmica e alta resistência dielétrica. Eles têm uma orientação cristalográfica nominal de (1-102) e exibem uma dureza de 9 na escala Mohs. As dimensões de 10 x 10 x 0,5 mm garantem uma curvatura mínima e baixa incompatibilidade de rede para várias camadas epitaxiais. Sua transparência óptica se estende até a faixa do infravermelho, o que os torna adequados para aplicações ópticas, eletrônicas e de alta temperatura.

P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado?

A2: Esse substrato deve ser manuseado com luvas limpas e sem fiapos para evitar contaminação e arranhões. Armazene-o em um ambiente sem poeira e com o mínimo de vibração, de preferência em um transportador de wafer ou em um recipiente selado. Evite o contato com soluções ácidas ou alcalinas, pois a exposição prolongada pode degradar a qualidade da superfície. Mantenha níveis moderados de umidade e temperatura para evitar problemas de condensação e preservar a integridade mecânica e óptica do substrato.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao substrato de cristal de safira de óxido de alumínio, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm?

R3: Esses substratos de safira normalmente estão em conformidade com os sistemas de gerenciamento de qualidade ISO 9001 para fabricação e inspeção. Eles são produzidos com tolerâncias de orientação cristalográfica altamente controladas, especificações de rugosidade de superfície e variações de espessura para atender aos padrões do setor de semicondutores. Cada lote também pode vir com um certificado de conformidade que verifica a precisão dimensional, a orientação e a pureza. Os fabricantes geralmente realizam testes ópticos e mecânicos rigorosos para garantir um desempenho consistente.

Informações relacionadas

1. Propriedades e vantagens do material

Muito valorizado por sua excepcional dureza e inércia química, o substrato de cristal de safira de óxido de alumínio no plano R (1-102) oferece benefícios significativos para aplicações tecnológicas de ponta. Ele mantém um desempenho estável em faixas extremas de temperatura, o que o torna altamente adequado para uso em ambientes severos de pesquisa e produção. A orientação desse substrato aumenta ainda mais sua integridade estrutural, garantindo risco mínimo de rachaduras ou deformações durante os exigentes processos de fabricação.

Adaptado a uma dimensão compacta de 10 x 10 x 0,5 mm, esse substrato de safira de plano R também se destaca em termos de clareza óptica e condutividade térmica, oferecendo suporte ao gerenciamento eficiente do calor em aplicações de dispositivos de alta frequência. Ao oferecer resiliência mecânica e propriedades dielétricas estáveis, ele é uma opção de primeira linha para pesquisadores e engenheiros que buscam resultados consistentes em dispositivos fotônicos ou semicondutores sofisticados.

2. Aplicações em setores avançados

O uso especializado de substratos de safira de plano R inclui a implantação na fabricação de dispositivos médicos, onde a qualidade e a durabilidade consistentes são vitais para instrumentos de diagnóstico sensíveis. As propriedades cristalográficas controladas do Al2O3 promovem uma integração perfeita em sistemas de laser, microscópios e outros equipamentos de alta precisão, ajudando a maximizar a estabilidade operacional e o rendimento. Como resultado, várias linhas de produção avançadas dependem desses substratos para manter um desempenho preciso e confiável.

Uma parte significativa dos setores automotivo e aeroespacial emprega esses substratos em aplicações de sensoriamento, em que sua natureza robusta resiste às cargas de vibração e choque predominantes em condições exigentes. De sensores ópticos de alta eficiência a sistemas microeletromecânicos (MEMS) de última geração, o substrato de cristal de safira de óxido de alumínio no plano R (1-102) atende consistentemente a requisitos rigorosos de confiabilidade e precisão dimensional, garantindo resultados otimizados em tecnologias de missão crítica.