Substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm Descrição
O LaAlO₃ (aluminato de lantânio) é um substrato monocristalino robusto conhecido por suas excelentes propriedades de correspondência de rede e alta estabilidade térmica. Sua orientação (111) proporciona uma superfície uniforme, ideal para o crescimento de filmes finos de perovskita, supercondutores de alta temperatura e materiais diversificados à base de óxido. As dimensões de 5×5×0,5 mm garantem um formato compacto adequado para ambientes de pesquisa e produção industrial.
Fabricado sob rigorosos controles de qualidade, esse substrato de LaAlO₃ apresenta baixa densidade de deslocamento e mínima rugosidade de superfície, o que resulta em uma plataforma premium para a deposição de camadas epitaxiais avançadas. Sua orientação cristalográfica bem definida garante um crescimento epitaxial preciso, enquanto a tolerância de espessura e a planicidade da superfície rigorosamente controladas mantêm os principais padrões para a pesquisa de materiais funcionais. Essa combinação de desempenho e confiabilidade faz dele uma escolha indispensável para aplicações eletrônicas e optoeletrônicas de ponta.
Substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm Aplicações
Os cristais de aluminato de lantânio (LaAlO3) oferecem uma combinação exclusiva de alta estabilidade estrutural, excelente condutividade térmica e uma baixa tangente de perda de micro-ondas, o que os torna ideais para uma série de aplicações avançadas. A orientação (111), combinada com as dimensões precisas de 5×5×0,5 mm, garante um desempenho confiável, especialmente quando a correspondência precisa da rede é crucial. Esses substratos abrem novas possibilidades nos setores industrial, de pesquisa e comercial, apoiando desenvolvimentos tecnológicos de ponta.
1. aplicações industriais
-Aplicação 1: Ideal para a fabricação de dispositivos de alta frequência devido à baixa perda de microondas do cristal e à capacidade de manter a integridade estrutural superior durante as flutuações de temperatura.
-Aplicação 2: Utilizado em processos de produção de semicondutores para deposição de filmes finos de alta qualidade, graças às excepcionais propriedades de correspondência de rede do cristal.
2. aplicações de pesquisa
-Aplicação 1: Serve como substrato essencial para o crescimento epitaxial de filmes de óxidos complexos, permitindo estudos avançados sobre supercondutividade e comportamento eletrônico quântico.
-Aplicação 2: Empregado em experimentos de ciência de materiais que exploram a alta constante dielétrica do cristal para desenvolver novas tecnologias eletrônicas e fotônicas.
3. aplicações comerciais
-Aplicação 1: Usado na produção de sensores para dispositivos precisos de monitoramento ambiental, aproveitando a estabilidade do cristal em condições variáveis.
-Aplicação 2: Contribui para o desenvolvimento de componentes ópticos de alto desempenho que se beneficiam de sua excelente transparência e propriedades uniformes.
Substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm Embalagem
Os substratos de LaAlO₃ (111) medindo 5×5×0,5 mm são embalados com segurança em um contêiner revestido de espuma para minimizar os choques. Cada cristal é selado em uma bolsa antiestática para preservar a pureza e bloquear os contaminantes. Para uma longevidade ideal, armazene em um ambiente limpo e com baixa umidade (abaixo de 60% de umidade relativa). Camadas de proteção adicionais podem ser adicionadas mediante solicitação. Estão disponíveis configurações personalizadas de rotulagem, rastreamento de lote e embalagem para atender a diversos requisitos e garantir uma entrega confiável.
Embalagem: Selado a vácuo, caixa de madeira ou personalizado.
Perguntas frequentes sobre o substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm
P1: Quais são as principais propriedades do material do substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm?
A1: O LaAlO3 (LAO) é um óxido monocristalino com uma estrutura de perovskita romboédrica que se torna pseudocúbica acima de aproximadamente 435°C. Ele tem uma incompatibilidade de rede relativamente baixa com muitos filmes finos de perovskita funcional, o que o torna uma excelente opção de substrato. O parâmetro de rede é de aproximadamente 3,79 Å e apresenta boa estabilidade térmica, uma constante dielétrica moderada (~24) e um coeficiente de expansão térmica próximo ao das perovskitas típicas.
P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado para evitar danos ou contaminação?
A2: Como os substratos de LAO são inerentemente frágeis e podem se quebrar sob estresse, eles devem ser manuseados com luvas limpas e sem fiapos e pinças de precisão para evitar contaminação ou arranhões. Mantenha-os longe de produtos químicos agressivos e evite choques de temperatura que possam induzir rachaduras. Armazene os substratos em recipientes sem poeira ou cassetes de wafer em condições de baixa umidade e inspecione-os regularmente para verificar se há contaminantes na superfície antes da deposição do filme fino.
P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao substrato de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm?
R3: Os substratos de LaAlO3 (111) são normalmente fabricados sob o gerenciamento de qualidade ISO 9001:2015 para garantir a precisão consistente da orientação, a precisão dimensional e a suavidade da superfície. Eles geralmente seguem as diretrizes da SEMI para orientação de cristal e geometria de wafer. A difração de raios X é comumente usada para verificar a qualidade do cristal, enquanto a microscopia de força atômica verifica a rugosidade da superfície em níveis subnanométricos, proporcionando alta repetibilidade e confiabilidade para o crescimento epitaxial avançado.
Informações relacionadas
1. Processo de fabricação
A fabricação de substratos de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm envolve um ambiente cuidadosamente controlado que garante a mais alta precisão e pureza. Inicialmente, técnicos especializados segmentam o lingote de cristal em peças uniformes de 5x5 mm usando métodos de corte especializados projetados para minimizar as microfissuras. Em seguida, técnicas meticulosas de polimento são empregadas para atingir a espessura padrão de 0,5 mm e, ao mesmo tempo, preservar a integridade do cristal, resultando em uma superfície lisa, crucial para dispositivos eletrônicos e fotônicos de última geração.
Ao longo dos estágios subsequentes, protocolos de limpeza abrangentes eliminam qualquer abrasão residual ou detritos de partículas. A imersão ultrassônica de alta frequência em soluções químicas cuidadosamente selecionadas é comumente usada para remover contaminantes microscópicos antes da inspeção final. Esse processo rigoroso confirma a precisão dimensional e a orientação do cristal, garantindo que cada substrato LAO atenda aos exigentes requisitos do setor em termos de confiabilidade e desempenho.
2. Aplicações em setores avançados
Uma grande variedade de setores avançados depende dos substratos de cristal de aluminato de lantânio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm para permitir o funcionamento superior dos dispositivos. Os fabricantes de semicondutores incorporam esses substratos em componentes de processamento de dados de alta velocidade, aproveitando a excelente condutividade térmica e as propriedades dielétricas do material. Além disso, os pesquisadores das áreas de fotônica e spintrônica utilizam o LAO para facilitar o crescimento de camadas epitaxiais complexas, tornando-o um componente inestimável para as tecnologias baseadas em luz da próxima geração.
Nos laboratórios voltados para sistemas emergentes de energia, os substratos de LAO desempenham um papel fundamental na fabricação de revestimentos especializados de película fina. Esses revestimentos exigem um substrato com excepcional uniformidade estrutural, e a LAO atende a essa demanda, garantindo o mínimo de incompatibilidade de rede. Ao apoiar o desenvolvimento de dispositivos de ponta em vários setores de alta tecnologia, os substratos de cristal LAO continuam a ser uma pedra angular para a inovação e o progresso tecnológico.
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