CY8508 Substrato de cristal de tantalato de alumínio e estrôncio de lantânio (100) 5x5x0,5 mm

Descrição do substrato de cristal de tantalato de alumínio e estrôncio de lantânio (100) 5x5x0,5 mm

O substrato de cristal de tantalato de lantânio, estrôncio e alumínio (LSAT) (100) 5×5×0,5 mm oferece uma plataforma altamente estável e versátil para pesquisas avançadas de filmes finos. Sua constante de rede bem ajustada e o coeficiente de expansão térmica compatível o tornam ideal para o crescimento epitaxial de materiais de óxido funcionais, incluindo supercondutores de alta temperatura, ferroelétricos e óxidos magnéticos. Projetado para apresentar o mínimo de defeitos e excelente acabamento superficial, esse substrato garante a qualidade e a reprodutibilidade ideais dos cristais durante os sofisticados processos de deposição.

Fabricado de acordo com rigorosos padrões de qualidade, cada substrato LSAT é submetido a orientação e polimento precisos para obter planicidade e suavidade excepcionais. Essa dedicação à excelência resulta na diminuição das perdas por dispersão, na integridade aprimorada do dispositivo e na maior confiabilidade do desempenho. Seja em pesquisas de ponta ou em aplicações comerciais, a estrutura estável e as propriedades robustas do LSAT fornecem uma base confiável para dispositivos eletrônicos, fotônicos e eletro-ópticos de última geração.

Substrato de cristal de tantalato de lantânio e estrôncio e alumínio (100) 5x5x0,5 mm Aplicações

Os substratos de cristal de tantalato de lantânio, estrôncio e alumínio (LSAT) são valorizados por sua alta estabilidade química, mínima incompatibilidade de rede e excelentes propriedades térmicas e mecânicas. A orientação (100) em um formato compacto de 5x5x0,5 mm suporta diversos processos de deposição de filmes finos e epitaxia. Esses recursos tornam os substratos LSAT altamente versáteis, permitindo aplicações industriais, de pesquisa e comerciais avançadas que exigem precisão, confiabilidade e desempenho.

1. aplicações industriais

-Embalagem de dispositivos de alta frequência para tecnologias de comunicação de última geração

-Ressonadores de baixa perda usados em eletrônicos de micro-ondas e ondas milimétricas

2. aplicações de pesquisa

-Crescimento de filmes supercondutores de alta temperatura para ciência de materiais fundamentais

-Estudos ópticos avançados de filmes finos para explorar novas propriedades fotônicas

3. aplicações comerciais

-Integração em conjuntos de sensores ópticos precisos para diagnósticos médicos

-Implantação em sistemas baseados em laser que exigem substratos estáveis e com poucos defeitos

Substrato de cristal de tantalato de alumínio e estrôncio de lantânio (100) 5x5x0,5 mm Embalagem

Embale cada substrato de cristal de tantalato de alumínio e estrôncio de lantânio (100) de 5×5×0,5 mm em uma bolsa selada a vácuo e segura contra ESD, com amortecimento de espuma para proteção contra choques. Armazene em um ambiente limpo e seco, em temperatura ambiente controlada, longe da luz solar direta e da umidade. Use luvas sem látex e um espaço de trabalho sem poeira ao manusear para evitar contaminação. Tamanhos de embalagem e opções de rotulagem personalizados estão disponíveis mediante solicitação para atender a requisitos específicos do projeto.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Substrato de cristal de tantalato de lantânio e estrôncio e alumínio (100) 5x5x0,5 mm Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do substrato de cristal de tantalato de alumínio e estrôncio-lantânio (100) 5x5x0,5 mm?

A1: O tantalato de lantânio, estrôncio e alumínio (LSAT) oferece um amplo intervalo de banda, estabilidade térmica e uma constante de rede bem definida de 3,868 Å, o que o torna ideal para o crescimento epitaxial de filmes de óxidos complexos. A baixa incompatibilidade estrutural do cristal com muitos materiais de óxido garante a deposição de filmes de alta qualidade. Além disso, a alta estabilidade química e a natureza isolante do LSAT proporcionam excelentes propriedades dielétricas e reduzem o risco de reatividade química durante o processamento de filmes finos.

P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado?

A2: Esse substrato deve ser sempre manuseado com luvas ou pinças limpas e sem fiapos para evitar que óleos e contaminantes adiram à superfície. Armazene-o em um ambiente limpo e seco, de preferência sob vácuo ou em um compartimento de proteção, para evitar a absorção de umidade ou a deposição de partículas. Evite flutuações bruscas de temperatura que possam induzir estresse ou rachaduras e manuseie com cuidado para evitar lascas ou quebras.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao substrato de cristal de tantalato de alumínio e estrôncio de lantânio (100) 5x5x0,5 mm?

R3: Os substratos de tantalato de alumínio e estrôncio de lantânio são normalmente fornecidos sob sistemas de gerenciamento de qualidade certificados pela ISO 9001, garantindo geometria, orientação e acabamento de superfície consistentes. Esses substratos geralmente aderem a tolerâncias rigorosas de dimensões e precisão de orientação, como ±0,1 mm de espessura e ±0,5° nos eixos cristalográficos. As superfícies polidas geralmente atendem a requisitos rigorosos de rugosidade (menos de 5 Å RMS), que estão em conformidade com os exigentes padrões do setor óptico e de semicondutores.

Informações relacionadas

1. Propriedades e vantagens do material

O tantalato de lantânio e estrôncio e alumínio (LaSrAlTaO₆) oferece um equilíbrio excepcional de estabilidade estrutural e inércia química, o que o torna uma excelente opção para aplicações de substrato. A orientação (100) em um cristal de 5x5x0,5 mm garante uma expansão térmica uniforme, o que favorece o desempenho consistente em ambientes de alta temperatura. Sua estrutura cristalina robusta permanece resistente a tensões mecânicas, ajudando a manter a integridade do substrato em vários processos de fabricação.

Suas constantes de rede estreitamente combinadas permitem uma melhor epitaxia com diversos materiais de película fina, melhorando a eficiência e a confiabilidade do dispositivo. Ao minimizar os defeitos de interface e promover o crescimento uniforme do cristal, esse substrato otimiza significativamente o desempenho de sistemas eletrônicos e fotônicos complexos. A capacidade de lidar com temperaturas de processamento elevadas sem comprometer a qualidade da superfície destaca as vantagens distintas desse substrato de tantalato de alumínio e estrôncio-lantânio.

2. Aplicações em setores avançados

A eletrônica de potência utiliza esse substrato para o desenvolvimento de wafer avançado devido à sua excelente estabilidade dielétrica e características isolantes confiáveis. A dimensão de 5x5x0,5 mm acomoda layouts de componentes mais apertados, permitindo a fabricação de transistores de alta frequência, conversores e componentes relacionados que exigem camadas de precisão. Essa consistência dimensional é vital para processos em que a uniformidade e a repetibilidade afetam diretamente a qualidade do produto final.

Mercados de nicho, como o de fotônica, aproveitam ainda mais as vantagens da redução de defeitos e da excelente qualidade do cristal. Os sistemas a laser, os sensores ópticos e as tecnologias de geração de imagens de alta resolução se beneficiam dos filmes claros e estáveis suportados pelos substratos de tantalato de alumínio e estrôncio de lantânio. Ao combinar durabilidade com correspondência precisa de rede, esse substrato oferece desempenho superior em setores de ponta que exigem padrões rigorosos de confiabilidade e eficiência.