Substrato de cristal de titanato de estrôncio Nb-SrTiO3 (STO) dopado com Nb a 0,7% (110) 10x10x0,5 mm Descrição
Os substratos de cristal de titanato de estrôncio Nb-SrTiO3 (STO) dopado com Nb a 0,7% são conhecidos por sua excelente condutividade elétrica e correspondência precisa de rede em uma variedade de aplicações eletrônicas e fotônicas avançadas. Esse substrato orientado para (110), medindo 10 x 10 x 0,5 mm, oferece uma estrutura cristalina estável e uniforme que suporta o crescimento de filmes epitaxiais de alta qualidade. O nível controlado de dopante de nióbio garante uma condutividade superior, tornando-o particularmente adequado para a fabricação e a pesquisa de dispositivos de última geração.
Cada substrato é produzido com rigorosos padrões de qualidade em mente, proporcionando excepcional planicidade de superfície e densidade mínima de defeitos. Essa confiabilidade se traduz em melhor desempenho e reprodutibilidade do dispositivo, apoiando os esforços de pesquisa acadêmica e industrial. Se aplicados ao desenvolvimento de transistores de película fina, moduladores ópticos ou tecnologias de sensores, os substratos de cristal de Nb-SrTiO3 oferecem uma plataforma robusta e versátil para inovações em ciência e engenharia de materiais.
Substrato de cristal de titanato de estrôncio Nb-SrTiO3 (STO) dopado com Nb a 0,7% (110) 10x10x0,5 mm Aplicações
Titanato de estrôncio Nb-SrTiO3 (STO)
Substrato de cristal dopado com 0,7% (110) 10x10x
0,5 mm é um material versátil conhecido por sua condutividade aprimorada, clareza óptica e excelente correspondência de rede para o crescimento avançado de filmes. Com a dopagem de Nb, o STO oferece propriedades elétricas estáveis, o que o torna ideal para uma ampla gama de aplicações avançadas. Isso inclui vários domínios industriais, de pesquisa e comerciais em que o controle preciso das características eletrônicas é fundamental.
1. aplicações industriais
-Aplicação 1: Usado como uma camada de superfície condutora na produção de semicondutores, permitindo o controle preciso da espessura e da resistividade do filme para a fabricação de dispositivos em larga escala.
-Aplicação 2: Serve como um substrato durável para o crescimento epitaxial em eletrônica de potência, apoiando a melhoria da eficiência energética e da estabilidade operacional.
2. aplicações de pesquisa
-Aplicação 1: Atua como um modelo de substrato de óxido para estudar fenômenos de transporte de elétrons em filmes finos de óxido complexos, auxiliando na pesquisa de física fundamental.
-Aplicação 2: Fornece uma plataforma para a investigação de efeitos quânticos, facilitando experimentos em materiais multiferróicos e nanoestruturas a baixas temperaturas.
3. aplicações comerciais
-Aplicação 1: Integrado a dispositivos ópticos, como moduladores eletro-ópticos, aproveitando sua transparência e condutividade controlada para melhorar o processamento de sinais.
-Aplicação 2: Empregado em tecnologias de sensores para eletrônicos de consumo, proporcionando tempos de resposta rápidos em telas sensíveis ao toque e sistemas de imagem devido às suas propriedades elétricas estáveis.
Titanato de estrôncio Nb-SrTiO3 (STO) Substrato de cristal dopado com Nb a 0,7% (110) 10x10x0,5 mm Embalagem
A embalagem recomendada para o substrato de cristal de titanato de estrôncio Nb-SrTiO3 (STO) Nb dopado a 0,7% (110) 10x10x0,5 mm inclui sacos antiestáticos selados individualmente e revestidos com espuma segura para ESD para proteção contra choques mecânicos. Os cristais devem ser armazenados em um ambiente limpo e seco, em temperatura ambiente, para minimizar a contaminação. Recomenda-se o uso de luvas de proteção e protocolos de sala limpa durante o manuseio. Soluções de embalagem personalizadas, como bandejas seladas a vácuo ou recipientes purgados com nitrogênio, estão disponíveis mediante solicitação.
Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.
Titanato de estrôncio Nb-SrTiO3 (STO) Substrato de cristal dopado com Nb a 0,7% (110) 10x10x0,5 mm Perguntas frequentes
P1: Quais são as principais propriedades do material do substrato de cristal de titanato de estrôncio Nb-SrTiO3 (STO) dopado com Nb a 0,7% (110) 10x10x0,5 mm?
A1: Esse substrato apresenta alta concentração de portadores devido à dopagem de 0,7% de Nb, o que permite maior condutividade elétrica. Ele apresenta uma estrutura cristalina tetragonal em temperaturas mais baixas, fazendo a transição para uma fase cúbica perto da temperatura ambiente. A orientação (110) garante características elétricas e ópticas anisotrópicas. Também oferece baixa perda dielétrica, alto índice de refração e boa correspondência de rede com vários materiais de filme fino, o que o torna adequado para aplicações eletrônicas e optoeletrônicas avançadas.
P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado?
A2: Manuseie o substrato de cristal com luvas de sala limpa para evitar contaminação e, se possível, use apenas pinças de grau instrumental ou ventosas. Armazene-o em um recipiente sem poeira ou em um suporte de wafer para proteger as superfícies e as bordas delicadas contra danos mecânicos. Mantenha condições estáveis de temperatura e umidade, de preferência em um ambiente entre 20 e 25°C e 40 e 50% de umidade relativa, para preservar a cristalinidade e evitar a degradação da superfície.
P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao substrato de cristal de titanato de estrôncio Nb-SrTiO3 (STO) dopado com Nb a 0,7% (110) 10x10x0,5 mm?
R3: Esses substratos normalmente estão em conformidade com os processos de fabricação baseados na norma ISO 9001, garantindo a qualidade consistente dos cristais e a precisão dimensional. Muitos fornecedores também aderem às normas RoHS e REACH, confirmando que nenhuma substância restrita é usada durante a produção. Como parte da garantia de qualidade, cada substrato pode ser submetido a verificações metrológicas rigorosas quanto à uniformidade da espessura, à rugosidade da superfície e à precisão da orientação, garantindo a conformidade com as especificações rigorosas do setor e da pesquisa.
Informações relacionadas
1. Processo de fabricação
O crescimento meticuloso do cristal é realizado por meio do controle cuidadoso das condições de temperatura e atmosfera para formar o substrato de cristal de titanato de estrôncio Nb-SrTiO3 (STO) dopado com Nb a 0,7% (110) 10x10x0,5 mm. Essa abordagem garante uma distribuição uniforme de nióbio em toda a estrutura do cristal, melhorando a condutividade e mantendo a orientação (110) desejada. Em seguida, os substratos são cortados e polidos com precisão para atender a tolerâncias rigorosas, produzindo um acabamento de superfície liso que é essencial para as etapas subsequentes de fabricação do dispositivo.
Durante o estágio de dopagem, técnicas especializadas garantem que a concentração de 0,7% de Nb seja integrada uniformemente em cada substrato, aprimorando as propriedades elétricas gerais sem comprometer a estabilidade da matriz STO. Esse processo cuidadoso ajuda a manter a espessura precisa de 0,5 mm e garante o mínimo de contaminação, apoiando a alta repetibilidade e o desempenho consistente do produto em diferentes lotes de produção.
2. Aplicações em setores avançados
A pesquisa de transistores de película fina de alto desempenho depende desses substratos de STO dopados com Nb devido à sua orientação cristalina estável e condutividade elétrica consistente. As dimensões de 10x10x0,5 mm permitem a integração adaptável em vários layouts de dispositivos, facilitando o desenvolvimento de eletrônicos de ponta em que o controle preciso da densidade de portadores é essencial. Além disso, a excelente correspondência de rede do substrato suporta filmes de óxido complexos, permitindo camadas funcionais avançadas que podem apresentar propriedades ferroelétricas e supercondutoras.
Os setores optoeletrônicos se beneficiam da transparência óptica e do nível de dopagem bem ajustado desse substrato, tornando-o uma plataforma ideal para aplicações inovadoras de sensores e detectores. Ao combinar perfeitamente as propriedades condutoras com um alto grau de integridade estrutural, os substratos de Nb-SrTiO3 podem aumentar a eficiência e a longevidade dos dispositivos fotônicos emergentes. Em última análise, a versatilidade desse material o posiciona como um facilitador essencial para os avanços contínuos em eletrônica e óptica integradas.
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