CY8529 Substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm

Substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm Descrição

Os substratos monocristalinos de dióxido de titânio (TiO₂) na fase rutilo com orientação (110), medindo 5 × 5 × 0,5 mm, oferecem propriedades ópticas e eletrônicas excepcionais para pesquisa de ponta e desenvolvimento de dispositivos. Seu alto índice de refração, amplo bandgap e excelente estabilidade química os tornam ideais para aplicações em fotocatálise, tecnologias de sensores e dispositivos semicondutores. A orientação (110) promove ainda mais o crescimento epitaxial uniforme, garantindo a deposição precisa da camada e o desempenho otimizado na pesquisa de filmes finos.

Cada substrato é fabricado de acordo com rigorosos padrões de qualidade, caracterizados por superfícies lisas com o mínimo de defeitos e tolerâncias dimensionais precisas. Essa atenção aos detalhes não apenas garante a confiabilidade em condições experimentais exigentes, mas também oferece excelente reprodutibilidade para fabricação em larga escala. Ao escolher esses substratos de TiO₂ (110), os pesquisadores e desenvolvedores de produtos podem se beneficiar de seu desempenho notável, possibilitando o avanço de tecnologias inovadoras.

Substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm Aplicações

Com sua estrutura rutílica distinta e orientação precisa (110), o substrato de cristal único de dióxido de titânio oferece um alto índice de refração, estabilidade excepcional e propriedades ópticas exclusivas. Medindo 5x5x0,5 mm, esse substrato é ideal para fabricação avançada, pesquisa e aplicações comerciais que envolvem deposição de película fina e crescimento epitaxial. Sua baixa densidade de defeitos e superfície uniforme garantem um desempenho confiável em diversos ambientes, possibilitando soluções inovadoras em vários setores.

1. aplicações industriais

-Montagem de sensores de película fina: O amplo bandgap e a alta cristalinidade do substrato permitem a detecção eficiente de sinais em dispositivos sensores.

-Revestimentos ópticos avançados: Sua superfície uniforme e excelente estabilidade térmica permitem a deposição precisa de revestimentos multicamadas para sistemas ópticos de alto desempenho.

2. aplicações de pesquisa

-Estudos de fotocatalisadores: A fase cristalina do rutilo facilita a exploração de reações fotocatalíticas, auxiliando no desenvolvimento de tecnologias de energia mais limpa e de controle de poluição.

-Crescimento epitaxial de óxidos: Sua estrutura de rede consistente permite o crescimento de filmes de óxido complexos, possibilitando a pesquisa fundamental em ciência de materiais e física de estado sólido.

3. aplicações comerciais

-Displays eletrônicos de alta resolução: A baixa densidade de defeitos do substrato garante clareza de imagem superior e longevidade em tecnologias de exibição.

-Superfícies de dispositivos resistentes ao desgaste: Suas propriedades robustas ajudam a criar revestimentos duráveis que protegem os eletrônicos de consumo contra arranhões e abrasões.

Substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm Embalagem

Cada substrato monocristalino de dióxido de titânio rutilo (TiO₂) (110) 5×5×0,5 mm é meticulosamente embalado em uma bolsa livre de estática e acolchoado com inserções de espuma para evitar danos físicos. Um contêiner selado e revestido com dessecante garante a secura e a limpeza. Para minimizar o risco de contaminação, manuseie apenas em um ambiente limpo. Nossa embalagem pode ser personalizada mediante solicitação para acomodar requisitos especiais de rotulagem ou proteção.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm?

A1: Os substratos de cristal único de TiO2 rutilo orientados ao longo do plano (110) apresentam um alto índice de refração (~2,6-2,9), um gap de banda de cerca de 3,0 eV e fortes propriedades dielétricas. Eles são quimicamente estáveis, com excelente resistência à corrosão e estabilidade térmica até altas temperaturas. A dureza é normalmente de 6,0 na escala de Mohs, e a estrutura de rede uniforme do substrato permite o crescimento reprodutível do filme epitaxial, tornando-o ideal para aplicações ópticas e eletrônicas avançadas.

P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado?

A2: O manuseio cuidadoso é essencial para evitar contaminação e danos mecânicos. Luvas e pinças de sala limpa devem ser usadas ao tocar as superfícies do substrato. Armazene o substrato em um recipiente sem poeira, em temperatura ambiente, longe da luz solar direta ou de fontes de umidade. Se for transportado, coloque-o em uma embalagem à prova de choque. A limpeza periódica com solventes adequados, seguida de secagem suave em um ambiente filtrado, ajuda a manter a integridade da superfície.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm?

R3: Fornecedores respeitáveis geralmente aderem a sistemas de gerenciamento de qualidade com certificação ISO 9001, garantindo rastreabilidade, fabricação consistente e protocolos de inspeção rigorosos. Os substratos geralmente passam por difração de raios X (XRD) e inspeção óptica para verificar a orientação cristalográfica, a planicidade e a qualidade da superfície. Alguns produtos também atendem às diretrizes RoHS e REACH, confirmando que estão livres de substâncias perigosas. Esses padrões ajudam a garantir substratos confiáveis e de alta pureza, adequados para aplicações industriais e de pesquisa em todo o mundo.

Informações relacionadas

1. Processo de fabricação

Técnicas de fabricação orientadas por precisão são empregadas para criar o substrato monocristalino de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (110) com dimensões de 5x5x0,5 mm. O processo começa com o crescimento controlado do cristal, normalmente utilizando métodos de alta temperatura que produzem uma fase rutilo uniforme. Ao monitorar os gradientes de temperatura e as condições ambientais, os fabricantes obtêm um substrato com o mínimo de defeitos e homogeneidade superior. Durante esse estágio, parâmetros rigorosos garantem que a orientação cristalográfica (110) seja preservada, levando a características físicas e químicas consistentes em cada wafer.

As etapas de corte e polimento termicamente otimizadas refinam ainda mais a qualidade e a espessura da superfície do substrato. Após a separação inicial do cristal em massa, técnicas avançadas de polimento removem abrasões microscópicas, resultando em um acabamento ultrassuave. Essa abordagem abrangente garante um substrato altamente estável que atende às altas demandas de aplicações especializadas, incluindo experimentos ópticos e eletrônicos em que as condições precisas da superfície são fundamentais.

2. Aplicações em setores avançados

Nos últimos anos, esses substratos de cristal único de TiO2 têm sido cada vez mais utilizados em prototipagem de dispositivos em nanoescala, estudos dielétricos de alta precisão e sistemas ópticos de última geração. Sua excelente transparência para comprimentos de onda visíveis e no infravermelho próximo os torna um forte candidato para projetos de fotônica avançada, permitindo uma modulação de luz superior e minimizando a dispersão. Além disso, o alto índice de refração da estrutura rutílica posiciona esses substratos como uma plataforma valiosa para pesquisas complexas de revestimento óptico e aplicações de laser.

Reconhecidos por seu desempenho mecânico e térmico consistente, os substratos de dióxido de titânio rutilo (110) também são procurados no campo emergente de sensores baseados em quantum. Eles fornecem uma interface estável para filmes finos e camadas epitaxiais, essenciais para pesquisas de ponta em supercondutores e spintrônica. Como resultado, pesquisadores e desenvolvedores industriais valorizam esses substratos para facilitar avanços inovadores em uma série de domínios de alta tecnologia, desde a geração de imagens especializadas até a metrologia de precisão.