CY8985 LSAT Substrato de cristal de tantalato de alumínio e estrôncio-lantânio (100) 5x5x0,5 mm SSP

LSAT Substrato de cristal de tantalato de alumínio e estrôncio-lantânio (100) 5x5x0,5 mm SSP Descrição

O LSAT (tantalato de alumínio-lantânio-estrôncio) é um substrato de cristal de perovskita premium amplamente valorizado por sua correspondência de rede superior, baixo coeficiente de expansão térmica e excelente estabilidade química. Sua orientação (100) o torna particularmente adequado para o crescimento epitaxial de filmes finos de óxidos avançados, supercondutores e materiais ferroelétricos. Com dimensões de 5×5×0,5 mm, esse substrato polido em um único lado (SSP) oferece uma superfície lisa e uniforme que promove a deposição de filmes de alta qualidade e reduz a incidência de defeitos.

Esse substrato de cristal LSAT atende a rigorosos padrões de qualidade em termos de pureza e precisão cristalográfica, garantindo um desempenho confiável em pesquisas de ponta e aplicações industriais. O polimento quase perfeito e a rugosidade mínima da superfície promovem condições de crescimento reproduzíveis, tornando-o ideal para uso em eletrônica avançada, optoeletrônica e outros campos especializados. Com sua excepcional uniformidade estrutural e integridade mecânica, os substratos LSAT (100) SSP são uma escolha confiável para cientistas e engenheiros que buscam materiais confiáveis e de alto desempenho.

Aplicações do substrato de cristal de tantalato de alumínio e lantânio LSAT (100) 5x5x0,5 mm SSP

Esse substrato de cristal LSAT (tantalato de alumínio-lantânio-estrôncio) (100) medindo 5x5x0,5 mm SSP é um material robusto e de alto desempenho, adequado para a deposição avançada de filmes finos. Sua excelente estabilidade térmica, propriedades de correspondência de rede e resistência mecânica o tornam ideal para ambientes exigentes. Ele garante o crescimento preciso de camadas funcionais usadas em dispositivos de ponta, apoiando avanços em vários setores, desde eletrônicos até soluções de energia renovável.

1. aplicações industriais

-Fabricação de sensores automotivos para diversos sistemas de bordo, aproveitando a estabilidade e as propriedades térmicas confiáveis do substrato

-Integração em equipamentos de processamento químico, onde a resistência do substrato a altas temperaturas e condições corrosivas aprimora os dispositivos analíticos e de monitoramento

2. aplicações de pesquisa

-Exploração de filmes finos avançados à base de óxido, beneficiando-se da correspondência precisa da rede, essencial para o desenvolvimento de materiais experimentais

-Estudos de alta temperatura de materiais funcionais, utilizando a resiliência e a superfície uniforme do substrato para a coleta estável de dados

3. aplicações comerciais

-Fabricação de produtos eletrônicos de consumo, fornecendo uma base confiável para circuitos de película fina e componentes eletrônicos precisos

-Dispositivos de telecomunicações, permitindo a produção eficiente de componentes de RF de alta frequência que exigem alinhamento cristalino e durabilidade ideais

Substrato de cristal de tantalato de alumínio e lantânio LSAT (100) 5x5x0,5 mm em embalagem SSP

Nossos substratos SSP LSAT (100) 5×5×0,5 mm são selados individualmente em luvas de polímero com amortecimento de espuma para evitar danos mecânicos. Cada luva é colocada dentro de uma bolsa antiestática e resistente à umidade para proteger contra contaminação. Armazene em um ambiente limpo e seco com temperatura ambiente estável. Opções de embalagem personalizadas estão disponíveis para atender a requisitos específicos, garantindo o transporte seguro e a máxima integridade do substrato.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Perguntas frequentes sobre o substrato de cristal de tantalato de alumínio e lantânio LSAT (100) 5x5x0,5 mm SSP

P1: Quais são as principais propriedades do material do substrato de cristal de tantalato de alumínio e lantânio LSAT (100) 5x5x0,5 mm SSP?

A1: O LSAT Lantânio-Estrôncio-Tantalato de Alumínio (100) 5x5x0,5 mm SSP oferece uma estrutura de perovskita de cristal único que garante parâmetros de rede consistentes, tornando-o ideal para uma ampla gama de aplicações de filme fino epitaxial. Com uma baixa constante dielétrica, ele oferece excelente isolamento e mantém a estabilidade sob temperaturas variáveis. O substrato também apresenta um coeficiente de expansão térmica que se aproxima de muitos filmes de óxido funcional, promovendo uma forte adesão ao filme.

P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado?

A2: Para um manuseio ideal, os operadores devem usar luvas de sala limpa e pinças não abrasivas para evitar arranhões ou contaminação. Recomenda-se realizar todas as manipulações em um ambiente com poucas partículas, como uma bancada limpa, para manter a integridade da superfície. Para o armazenamento, sele o substrato em uma bolsa ou recipiente antiestático e mantenha-o em um ambiente seco e controlado para evitar problemas relacionados à umidade.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao LSAT Lanthanum-Strontium Aluminum Tantalate Crystal Substrate (100) 5x5x0.5 mm SSP?

R3: Os fabricantes geralmente aderem à ISO 9001 para garantir a qualidade consistente do produto, a rastreabilidade da produção e o gerenciamento do processo. Alguns fornecedores também estão em conformidade com a ISO 14001, com foco na responsabilidade ambiental e no uso sustentável de materiais. Além disso, eles costumam seguir diretrizes específicas do setor que verificam a pureza dos cristais, a precisão dimensional e as superfícies livres de defeitos. A certificação sob essas estruturas reconhecidas demonstra um compromisso com substratos confiáveis que atendem às demandas exigentes de aplicações industriais e de pesquisa.

Informações relacionadas

1. Processo de fabricação

Combinando métodos avançados de crescimento de cristais com técnicas de orientação precisas, o LSAT Lanthanum-Strontium Aluminum Tantalate Crystal Substrate (100) 5x5x0.5 mm SSP é produzido sob condições meticulosamente controladas. O processo geralmente inclui o Czochralski ou outras técnicas especializadas de extração, garantindo que o substrato apresente uma estrutura de rede consistentemente uniforme que se alinhe à orientação (100). Essa orientação oferece estabilidade superior durante o processamento subsequente do wafer, tornando-o uma opção atraente para a fabricação de dispositivos complexos.

Durante todo o processo de fabricação, o polimento cuidadoso e a gravação química são realizados para obter a superfície polida de um único lado. Essa etapa aprimora a suavidade da superfície e reduz os defeitos microscópicos, o que é crucial para aplicações em que a qualidade do filme e o desempenho do dispositivo estão vinculados à mínima rugosidade da superfície. Com a manutenção de parâmetros ambientais rigorosos, os fabricantes garantem que cada substrato atenda às tolerâncias exatas de tamanho, espessura e orientação para alta reprodutibilidade.

2. Aplicações em setores avançados

Instituições de pesquisa e empresas de tecnologia de ponta escolhem regularmente os substratos LSAT para dispositivos eletrônicos e fotônicos de última geração. Esses substratos são amplamente utilizados como uma camada de base para materiais que exigem correspondência de rede, como filmes finos de óxido de alto desempenho, garantindo heteroepitaxia eficiente e qualidade cristalina superior. Sua expansão térmica e propriedades dielétricas os tornam os principais candidatos para sensores especializados, moduladores ópticos e componentes exploratórios de computação quântica.

Setores em expansão, como o de eletrônica quântica e optoeletrônica, também se beneficiam significativamente da estrutura cristalina estável do LSAT. Sua compatibilidade com os métodos emergentes de fabricação de filmes finos permite a integração perfeita em novas arquiteturas de dispositivos, facilitando avanços em circuitos eficientes em termos de energia e sistemas de imagem de alta resolução. Ao oferecer fácil usinabilidade e desempenho confiável, os substratos de cristal LSAT continuam a expandir sua presença em campos de tecnologia em rápida evolução.