SI11491 Tanque de limpeza de quartzo fundido com cesto para wafer

Descrição do tanque de limpeza de quartzo fundido com cesto de wafer

O tanque de limpeza de quartzo fundido com cesto para wafer utiliza quartzo fundido de alta pureza, essencialmente SiO₂, valorizado por sua inércia química e baixa expansão térmica. Esse design suporta a limpeza de wafer sensível à contaminação ao alojar com segurança um cesto usinado com precisão, mantendo assim a integridade do substrato durante processos de limpeza agressivos. As propriedades do material contribuem diretamente para a redução das taxas de defeitos na fabricação de semicondutores.

Os cestos de limpeza de wafer de vidro de quartzo são recipientes ou tanques perfurados feitos de vidro de quartzo de alta pureza com uma estrutura de rede específica. Eles são projetados para conter com segurança vários wafers de silício durante processos de limpeza em alta temperatura que envolvem soluções químicas altamente corrosivas, como ácido fluorídrico (HF), água régia, SC-1, SC-2 ou água deionizada em alta temperatura.

A estrutura otimizada garante a exposição total e o fluxo uniforme de produtos químicos de limpeza em torno de cada wafer, permitindo um desempenho de limpeza consistente, completo e confiável, além de manter excelente estabilidade térmica e química.

Características do tanque de limpeza de quartzo fundido com cesto para wafer

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Tanque de limpeza de quartzo fundido com cesto para wafer Aplicações

1.eletrônicos - processamento de semicondutores
- Usado como componente de limpeza em sistemas de processamento de wafer para obter contaminação mínima de partículas, aproveitando a inércia química do quartzo fundido.
- Aplicado como um módulo de limpeza integral para manter a qualidade do substrato durante tratamentos químicos agressivos.

2.equipamento de laboratório
- Serve como uma câmara de limpeza controlada em ambientes de pesquisa em que a pureza do material é fundamental para evitar a contaminação.
- Frequentemente usado para processos de limpeza química em que a natureza não reativa do quartzo fundido preserva a integridade da amostra.

Tanque de limpeza de quartzo fundido com embalagem de cesto de wafer

O tanque de limpeza de quartzo fundido com cesto de wafer é embalado com segurança em uma caixa projetada sob medida com amortecimento antiestático e filme inerte resistente à umidade. O sistema de embalagem incorpora inserções de espuma protetora para reduzir o impacto mecânico e o estresse térmico durante o transporte e o armazenamento. As instruções de armazenamento em ambiente controlado preservam a integridade do material. Opções personalizadas de rotulagem e amortecimento estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio em laboratório.

Informações adicionais

O quartzo fundido, composto predominantemente de dióxido de silício (SiO₂), apresenta excepcional inércia química e estabilidade térmica, o que o torna um material preferido na limpeza de precisão e no processamento de semicondutores. Seu baixo coeficiente de expansão térmica contribui para aumentar a estabilidade do processo em ambientes com frequentes flutuações de temperatura.

Na fabricação de semicondutores e em ambientes laboratoriais, é vital manter controles rigorosos de contaminação. As propriedades do material de quartzo fundido, combinadas com as práticas de engenharia de precisão, dão suporte a aplicações críticas de limpeza em que até mesmo a mínima interferência de partículas pode comprometer o desempenho do produto.