ST11167 Alvo rotativo de alumínio, Alvo de alumínio

Alvo rotativo de alumínio, descrição do alvo de Al

O alvo rotativo de alumínio, Al Target, é produzido com alumínio de alta pureza destinado a sistemas de deposição por pulverização catódica. O design rotativo do alvo facilita a erosão uniforme e a utilização do material durante o processo de pulverização. Suas dimensões personalizadas garantem a compatibilidade com várias câmaras de deposição, otimizando a uniformidade da película fina. As propriedades do material, incluindo a estrutura de grãos controlada e o ponto de fusão definido, oferecem suporte ao desempenho estável em processos que exigem vaporização precisa do metal.

Alvo rotativo de alumínio, características do alvo de Al

As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo rotativo de alumínio, Alvo de Alumínio Aplicações

Processamento de eletrônicos e semicondutores
- Usado como alvo de pulverização catódica na deposição de semicondutores para obter revestimentos uniformes de película fina, aproveitando a composição controlada do material.
- Aplicado como fonte metálica em sistemas PVD para depositar camadas condutoras, auxiliando no desenvolvimento de circuitos microeletrônicos.

Revestimento industrial e tratamento de superfície
- Empregado como componente de revestimento em sistemas de tratamento de superfície para melhorar a adesão e a uniformidade do filme, utilizando seu design rotativo que melhora a distribuição do material.
- Serve como base para revestimentos decorativos e protetores em componentes industriais, garantindo a consistência do filme por meio da personalização dimensional sob medida.

Alvo rotativo de alumínio, embalagem do alvo Al

O Alvo Rotativo de Alumínio, Alvo Al é embalado com materiais resistentes à umidade e antiestáticos. Ele é acondicionado em contêineres selados e revestidos com espuma para reduzir o impacto mecânico e a contaminação. Recomenda-se o armazenamento em um ambiente controlado e de baixa umidade para minimizar a oxidação. O design da embalagem facilita a personalização de acordo com o tamanho do alvo e os requisitos de envio. Cada embalagem é claramente rotulada para garantir o manuseio adequado e a rastreabilidade durante o transporte.

Informações adicionais

Os alvos de pulverização de alumínio têm um papel fundamental nos sistemas de deposição física de vapor, fornecendo a matéria-prima para a formação de filmes finos em vários setores. As propriedades do alumínio, como o ponto de fusão definido e a densidade consistente, afetam diretamente a eficiência dos processos de deposição, afetando a qualidade e a uniformidade dos filmes resultantes.

Compreender os aspectos metalúrgicos do alumínio, incluindo seu comportamento de refinamento de grãos e estabilidade de composição, é essencial para otimizar as aplicações de sputtering. Os avanços científicos na caracterização de materiais continuam a aumentar a confiabilidade dos alvos de alumínio, apoiando seu uso em ambientes de fabricação cada vez mais sofisticados.