ST11169 Alvo planar de alumínio, cromo, titânio e vanádio, alvo de AlCrTiV

Alvo planar de alumínio, cromo, titânio e vanádio, AlCrTiV Descrição do alvo

O Alvo plano de alumínio, cromo, titânio e vanádio, AlCrTiV, é um alvo de sputtering fabricado a partir de uma liga de alumínio com adições controladas de cromo, titânio e vanádio. Os elementos de liga são otimizados para melhorar a uniformidade da deposição do filme, tornando-o compatível com sistemas de sputtering industriais e de semicondutores. Seu design plano facilita a cobertura uniforme e a erosão consistente do alvo, garantindo resultados de deposição reproduzíveis em ambientes de processamento controlados.

Alvo plano de alumínio, cromo, titânio e vanádio, características do alvo AlCrTiV

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo plano de alumínio, cromo, titânio e vanádio, alvo de AlCrTiV Aplicações

1.
Eletrônicos
- Usado como alvo de pulverização na fabricação de dispositivos semicondutores para obter uma metalização uniforme de filmes finos, aproveitando sua microestrutura controlada.
- Aplicado como meio de deposição em sistemas de revestimento de microeletrônica para obter espessura e adesão consistentes do filme.

2.
Revestimentos industriais
- Serve como alvo de sputtering em processos industriais para depositar filmes de liga de alumínio resistentes ao desgaste, aumentando a durabilidade da superfície por meio do controle preciso da composição.
- Frequentemente usado para aplicações de revestimento em peças de máquinas para melhorar a dureza da superfície e reduzir o atrito, utilizando seu design plano.

3.
Pesquisa e desenvolvimento
- Empregado em experimentos de sputtering de P&D para estudar as características de deposição de ligas, aproveitando as dimensões personalizáveis e a composição uniforme.
- Usado como alvo modelo em pesquisas de ciência de materiais para avaliar a dinâmica de formação de filme e o comportamento de erosão do alvo.

Alvo plano de alumínio, cromo, titânio e vanádio, embalagem do alvo AlCrTiV

O alvo é embalado em contêineres antiestáticos de grau de sala limpa com estofamento de espuma para evitar danos mecânicos e contaminação. Ele é selado em embalagens de atmosfera inerte para minimizar a oxidação durante o armazenamento. As condições adequadas de armazenamento incluem um ambiente fresco e seco, longe da luz solar direta. Opções de embalagem personalizadas, como absorção de choque adicional e rotulagem específica, estão disponíveis mediante solicitação.

Informações adicionais

Os alvos de pulverização fabricados a partir de ligas de alumínio complexas desempenham funções críticas nos processos de deposição de filmes finos. O controle preciso da composição da liga influencia diretamente a microestrutura e as propriedades funcionais do filme, tornando-os essenciais para aplicações de alto desempenho em revestimentos eletrônicos e industriais.

A compreensão da interação entre os elementos de liga e a dinâmica de pulverização é fundamental na pesquisa da ciência dos materiais. Esses alvos fornecem uma plataforma para explorar a cinética de deposição e otimizar as características da superfície, avançando, em última análise, nas aplicações de fabricação de semicondutores e engenharia de materiais.