ST11173 Alvo de pulverização de fosfato de sódio, alvo de Na3PO4

Alvo de pulverização de fosfato de sódio, descrição do alvo Na3PO4

O alvo de fosfato de sódio para pulverização catódica, alvo de Na3PO4, é composto de Na3PO4 de alta pureza em uma forma de alvo adequada para processos de pulverização catódica. A composição química uniforme do material permite taxas de deposição e propriedades de filme consistentes. Sua fabricação envolve controles de processo rigorosos, garantindo o mínimo de impurezas e defeitos, o que é fundamental para aplicações que exigem filmes finos uniformes na fabricação de semicondutores e dispositivos ópticos.

Alvo de pulverização de fosfato de sódio, características do alvo Na3PO4

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo de pulverização de fosfato de sódio, alvo de Na3PO4 Aplicações

Fabricação de eletrônicos e monitores
- Usado como material alvo na deposição de filmes finos para painéis de tela para obter um revestimento uniforme e de alta integridade, aproveitando sua estabilidade química.
- Aplicado na fabricação de filmes condutores transparentes em que a composição controlada garante propriedades ópticas e elétricas consistentes.

Revestimentos e sensores industriais
- Empregado como alvo de sputtering reativo na fabricação de sensores para obter camadas de filme funcionais, aproveitando sua microestrutura controlada.
- Frequentemente usado em processos de revestimento protetor, em que a inércia química suporta a durabilidade do filme a longo prazo sob estresse operacional.

Alvo de pulverização de fosfato de sódio, embalagem do alvo Na3PO4

O alvo é embalado de forma segura em um invólucro antiestático e resistente à umidade com materiais de amortecimento para evitar danos mecânicos durante o transporte. As diretrizes de armazenamento incluem um ambiente com temperatura e umidade controladas para manter a integridade do material. As opções de embalagem podem ser personalizadas com vedação ou rotulagem adicionais para atender a requisitos específicos de laboratório ou produção.

Informações adicionais

Os alvos de sputtering de fosfato de sódio são componentes essenciais na deposição de filmes finos, em que a uniformidade precisa do filme depende muito da pureza e da microestrutura do alvo. O próprio processo de pulverização depende da manutenção de um ambiente de plasma estável, e os materiais com características químicas consistentes garantem ciclos de deposição repetíveis.

No contexto mais amplo da ciência dos materiais, é essencial entender a relação entre a composição química e as propriedades do filme. As pesquisas continuam a refinar as formulações de alvos para otimizar a eficiência da pulverização, reduzir a geração de partículas e melhorar o desempenho geral do filme em dispositivos eletrônicos e ópticos avançados.