ST11175 Alvo planar de cério e magnésio, alvo CeMg

Descrição do alvo planar de cério e magnésio, alvo CeMg

O alvo planar de cério e magnésio, alvo CeMg, é um alvo de sputtering composto por uma liga de cério e magnésio cuidadosamente equilibrada. Seu design planar facilita a deposição consistente do filme em processos a vácuo, garantindo a distribuição uniforme do material. A composição controlada suporta características específicas de filme essenciais para aplicações eletrônicas, ópticas e de revestimento avançadas, tornando-o um material funcional para configurações de sputtering industriais e de pesquisa.

Características do alvo planar de cério e magnésio, alvo CeMg

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo planar de cério e magnésio, aplicações do alvo CeMg

Eletrônicos
- Usado como alvo de sputtering na deposição de filmes finos de semicondutores para obter uma espessura uniforme do filme, aproveitando sua composição de liga consistente.
- Aplicado como fonte de deposição na fabricação de dispositivos optoeletrônicos para aumentar a uniformidade do filme, utilizando sua composição química controlada.

Industrial
- Empregado como alvo de revestimento em tratamentos de superfície resistentes ao desgaste para melhorar a consistência do processo, capitalizando sua estrutura de liga estável.
- Integrado em sistemas de revestimento gradiente para componentes ópticos para otimizar as taxas de deposição e a qualidade do filme com base em suas propriedades precisas de material.

Pesquisa científica
- Usado em configurações experimentais para estudos de filmes finos para produzir estruturas de filmes controladas, aproveitando sua composição exata.
- Aplicado em ambientes de teste para analisar a dinâmica de pulverização e a cinética de crescimento do filme, beneficiando-se de seu design de alvo plano uniforme.

Alvo planar de cério e magnésio, embalagem de alvo de CeMg

O alvo planar de cério e magnésio é embalado em materiais antiestáticos e resistentes à corrosão com amortecimento de espuma dentro de contêineres selados para evitar contaminação e danos mecânicos. Os alvos são armazenados em condições controladas de temperatura e baixa umidade. Opções de embalagem personalizadas, incluindo projetos selados a vácuo e rotulagem especializada, podem ser fornecidas para atender a requisitos específicos de manuseio.

Informações adicionais

Os alvos de pulverização catódica, como o alvo CeMg, desempenham um papel crucial nos processos de deposição de película fina em vários setores. A composição controlada da liga permite características precisas do filme, o que é fundamental para aplicações em eletrônica e óptica. As pesquisas geralmente se concentram na interação entre as propriedades do material e os parâmetros de deposição para otimizar o desempenho.

A seleção de alvos de pulverização catódica é baseada em especificações técnicas detalhadas que garantem a compatibilidade com sistemas de alto vácuo e equipamentos de deposição. Testes extensivos, incluindo monitoramento in-situ e análise pós-deposição, ajudam a validar o desempenho do material e orientam as melhorias do processo em ambientes de fabricação avançados.