ST11180 Alvo planar de cromo, alvo de Cr

Descrição do alvo planar de cromo, alvo Cr

O alvo planar de cromo, alvo Cr, é uma fonte de sputtering feita de cromo metálico de alta pureza. Ele foi projetado para uso em processos de deposição física de vapor para formar filmes finos uniformes. A configuração planar permite a produção consistente de material e o controle preciso da espessura do filme. Suas dimensões personalizadas permitem a compatibilidade com equipamentos padrão de pulverização catódica e, ao mesmo tempo, mantêm uma superfície de deposição lisa e uma composição estável de elementos, essenciais para aplicações de revestimento óptico e de semicondutores.

Características do alvo planar de cromo, Cr

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo planar de cromo, alvo de Cr Aplicações

Fabricação de eletrônicos e semicondutores
- Usado como fonte de metal em sistemas de pulverização catódica para formar camadas condutoras em circuitos integrados, aproveitando a composição consistente do alvo.
- Aplicado como material de deposição na produção de telas planas para obter uma cobertura uniforme do filme e reduzir a interferência de partículas.

Revestimentos de superfícies industriais
- Serve como elemento de revestimento em componentes mecânicos para fornecer uma camada metálica protetora, utilizando suas propriedades materiais estáveis.
- Usado como fonte em sistemas de revestimento decorativo para produzir filmes de cromo uniformes e aderentes em produtos de consumo.

Alvo planar de cromo, embalagem do alvo de Cr

O alvo é embalado em um ambiente limpo e livre de estática usando uma embalagem anti-contaminação. Ele é selado em contêineres personalizados e resistentes à umidade, com amortecimento protetor que minimiza os danos causados pelo manuseio. As instruções de armazenamento enfatizam um ambiente com temperatura controlada e exposição mínima a poeira ou partículas transportadas pelo ar. Opções de embalagem personalizadas, incluindo unidades rotuladas e compartimentadas, estão disponíveis para atender a requisitos logísticos específicos.

Informações adicionais

Os alvos de sputtering à base de cromo são usados há muito tempo em ambientes que exigem deposição controlada de filmes finos. Suas propriedades materiais, incluindo alto ponto de fusão e resistividade elétrica moderada, os tornam adequados para aplicações em que a estabilidade térmica e mecânica é essencial.

A compreensão das condições de processamento e da morfologia do alvo desempenha um papel significativo no desempenho geral dos sistemas de deposição física de vapor. A pesquisa contínua em ciência dos materiais ajuda a refinar esses alvos para atender aos desafios da engenharia avançada na fabricação de semicondutores e nos processos de revestimento industrial.