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ST11183 Alvo rotativo de cobre e gálio, alvo CuGa

Número de catálogo. ST11183
Composição Cu, Ga
Pureza ≥99,99%, ou personalizado
Formulário Alvo
Forma Tubular
Dimensões Personalizado

O alvo rotativo de cobre-gálio, alvo CuGa, é produzido usando uma liga de cobre-gálio com composição cuidadosamente controlada para aplicações de pulverização catódica. A Stanford Advanced Materials (SAM) emprega técnicas avançadas de fusão e forjamento rotativo combinadas com avaliações quantitativas de espectroscopia e imagem para verificar a uniformidade da composição e a integridade da superfície. O processo de controle de qualidade é baseado na análise rotineira de microscopia eletrônica de varredura, garantindo a consistência do material. Essas metodologias dão suporte ao comportamento preciso da erosão do alvo e às condições estáveis do plasma durante os procedimentos de deposição.

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FAQ

Como a composição da liga de cobre-gálio afeta o desempenho da deposição por pulverização catódica?

A composição controlada da liga ajuda a manter taxas de erosão consistentes e distribuição uniforme do plasma durante a deposição. Essa consistência é fundamental para obter uma espessura uniforme do filme em aplicações de pulverização catódica.

Quais métodos de controle de qualidade são usados durante a fabricação desse alvo?

O processo de fabricação inclui análise espectroscópica e microscopia eletrônica de varredura para garantir a uniformidade da liga e a qualidade da superfície. Essas técnicas monitoram a precisão da composição e a microestrutura para dar suporte ao desempenho estável do sputtering.

É possível personalizar as dimensões do alvo para sistemas de pulverização específicos?

Sim, o alvo está disponível em dimensões personalizadas para se alinhar aos requisitos específicos da câmara de deposição por pulverização catódica, garantindo a integração adequada e a eficiência da deposição.

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