ST11190 Alvo de pulverização planar de índio, no alvo

Descrição do alvo de pulverização planar de índio, no alvo

O alvo de sputtering planar de índio, alvo In é um alvo de sputtering à base de índio utilizado em sistemas de deposição de plasma. Ele é fabricado com índio (In) de alta pureza para minimizar as impurezas durante a formação do filme. As dimensões personalizáveis permitem a integração em várias câmaras de deposição, garantindo a erosão uniforme do alvo e a uniformidade consistente do filme. Seu design plano aumenta a reprodutibilidade do processo na fabricação de semicondutores e optoeletrônicos.

Alvo de pulverização plana de índio, características do alvo

As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo de pulverização planar de índio, em aplicações de alvo

Eletrônicos
- Usado como fonte de sputtering em sistemas de deposição de semicondutores para obter filmes finos uniformes, aproveitando suas dimensões personalizáveis.
- Aplicado como alvo na fabricação de telas para melhorar a qualidade e a homogeneidade da interface do filme.

Industrial
- Serve como material de eletrodo em sensores de filme fino para melhorar a consistência do sinal elétrico, utilizando seu índio de alta pureza.
- Frequentemente usado na fabricação de células solares para depositar filmes condutores transparentes, aproveitando seu design planar personalizado.

Comercial
- Empregado em processos de revestimento óptico para fornecer camadas de filme consistentes, melhorando assim o desempenho do dispositivo por meio de taxas de deposição controladas.

Alvo de pulverização planar de índio, em embalagem de alvo

O alvo é embalado em um ambiente antiestático e livre de poeira usando recipientes rígidos e selados para evitar contaminação e danos mecânicos. A espuma protetora e os materiais dessecantes são incorporados para manter um ambiente estável. Opções de embalagem personalizadas, incluindo contêineres selados a vácuo e rotulagem precisa, estão disponíveis para aplicações que exigem condições de armazenamento especializadas.

Informações adicionais

O índio é um metal macio e dúctil que desempenha um papel fundamental na tecnologia de deposição de película fina. Seu baixo ponto de fusão e alta pureza o tornam adequado para contatos elétricos e revestimentos especializados. O design plano dos alvos de pulverização aumenta a uniformidade durante a deposição, o que é vital para aplicações eletrônicas e optoeletrônicas avançadas.

A compreensão das características materiais do índio ajuda a otimizar as condições de deposição e a obter propriedades precisas do filme. Em ambientes industriais e de pesquisa, a caracterização detalhada do comportamento do material sob condições de pulverização garante que os alvos funcionem de forma consistente, facilitando o controle aprimorado do processo e o desempenho do dispositivo.