ST11196 Alvo planar de dissulfeto de molibdênio, alvo de MoS2

Alvo plano de dissulfeto de molibdênio, descrição do alvo de MoS2

O alvo plano de dissulfeto de molibdênio, alvo de MoS2, é um substrato funcional usado em sistemas de pulverização catódica para depositar filmes finos de MoS2. As dimensões personalizáveis do alvo garantem a compatibilidade com o equipamento padrão de semicondutores. Sua superfície plana verificada contribui para a deposição uniforme do filme, reduzindo a variabilidade do processo. O SAM emprega imagens detalhadas da superfície e verificações de composição para manter a qualidade necessária para pesquisas avançadas e processos industriais.

Características do alvo planar de dissulfeto de molibdênio, MoS2

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo planar de dissulfeto de molibdênio, alvo de MoS2 Aplicações

1.eletrônicos
- Usado como alvo de pulverização na fabricação de transistores de filme fino para obter uma deposição uniforme do filme, aproveitando sua geometria plana.
- Aplicado como fonte de deposição na criação de dispositivos semicondutores 2D, reduzindo a variabilidade do processo por meio de sua espessura controlada.

2.processamento industrial
- Serve como fonte de sputtering em aplicações de revestimento para produzir camadas protetoras em componentes, garantindo propriedades de superfície consistentes.
- Frequentemente usado na fabricação de catalisadores, onde as propriedades uniformes do filme aumentam a eficiência geral do processo.

Alvo plano de dissulfeto de molibdênio, embalagem do alvo de MoS2

O alvo é embalado em um transportador certificado para salas limpas com materiais antiestáticos e de barreira à umidade. Ele é armazenado em contêineres selados e almofadados, projetados para minimizar a contaminação e os danos mecânicos. A embalagem também inclui inserções de espuma e opções de personalização de rótulos. Recomenda-se o armazenamento em um ambiente com temperatura controlada e baixa umidade para manter a integridade e o desempenho da superfície do alvo.

Informações adicionais

O dissulfeto de molibdênio (MoS₂) é um dicalcogeneto de metal de transição em camadas conhecido por suas propriedades lubrificantes e estrutura química estável. Seu uso em alvos de sputtering facilita a formação de filmes finos e uniformes cruciais em microeletrônica e catálise. A caracterização detalhada da superfície e a usinagem de precisão são essenciais para obter as propriedades desejadas para o crescimento consistente do filme.

A compreensão do comportamento do material em ambientes de vácuo e durante os processos de deposição de alta energia pode levar a um melhor desempenho do dispositivo. A interação entre a pureza do material e a planaridade da superfície alvo é fundamental para otimizar a eficiência da deposição e minimizar a variabilidade do processo em aplicações industriais.