ST11197 Alvo planar de nióbio, alvo de Nb

Alvo planar de nióbio, descrição do alvo de Nb

O alvo planar de nióbio, alvo de Nb, é fabricado com nióbio metálico de alta pureza, processado especificamente para aplicações de pulverização catódica. Seu design planar garante deposição uniforme e compatibilidade com uma ampla gama de sistemas de pulverização catódica. As dimensões personalizadas atendem a vários requisitos de substrato, enquanto o processamento controlado do material minimiza os defeitos internos. A composição consistente do alvo beneficia os processos de deposição em aplicações de semicondutores e de revestimento, melhorando a uniformidade do filme.

Características do alvo planar de nióbio, alvo de Nb

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo planar de nióbio, aplicações de alvo de Nb

Eletrônicos
- Usado como fonte de pulverização na fabricação de semicondutores para obter deposição uniforme de filmes finos, aproveitando a composição controlada, o que aumenta a consistência na fabricação de dispositivos eletrônicos.

Processamento industrial
- Aplicado como alvo de revestimento em sistemas de engenharia de superfície para melhorar a adesão do filme. A pureza controlada do nióbio minimiza os defeitos microestruturais, contribuindo para o desempenho estável do processo.

Pesquisa e desenvolvimento
- Serve como alvo personalizável em configurações experimentais de sputtering para estudar os parâmetros de deposição. Suas propriedades de material verificadas permitem a variação sistemática e a coleta de dados confiáveis.

Alvo planar de nióbio, embalagem de alvo de Nb

O alvo planar de nióbio, alvo de Nb é embalado em um contêiner antiestático almofadado para evitar danos mecânicos e contaminação durante o transporte. O alvo é envolto em um filme protetor e preso em uma caixa rígida. Recomenda-se o armazenamento em um ambiente com baixa umidade e temperatura controlada. Opções de embalagem personalizadas, incluindo vedação a vácuo e rotulagem adicional, estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio.

Informações adicionais

O nióbio é amplamente utilizado em aplicações de alvo de sputtering devido ao seu alto ponto de fusão e inércia química. Os métodos de caracterização detalhada, como XRD e SEM, são essenciais para garantir que os alvos atendam aos requisitos mecânicos e de composição precisos.

Os avanços na ciência dos materiais aprimoraram as técnicas de processamento de alvos de nióbio. O controle aprimorado sobre a pureza e a morfologia da superfície leva a uma melhor reprodutibilidade nos processos de deposição de filmes finos, o que é fundamental para aplicações nos setores de eletrônicos e de revestimento.