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ST11198 Alvo rotativo de nióbio, alvo de Nb

Número de catálogo. ST11198
Composição Nb
Pureza ≥99,95%, ou personalizado
Formulário Alvo
Forma Tubular
Dimensões Personalizado

O alvo rotativo de nióbio, Nb Target, é um alvo de pulverização fabricado com nióbio puro usando processos controlados de fusão e forjamento. A Stanford Advanced Materials (SAM) emprega rigorosas inspeções metalográficas e de fluorescência de raios X para monitorar a consistência do material. O alvo é produzido com controle preciso da composição e da geometria, garantindo que suas propriedades físicas estejam alinhadas com os requisitos de pulverização para a deposição de filmes finos. Esse processo de fabricação controlado oferece suporte ao desempenho ideal em ambientes de deposição de alta demanda.

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FAQ

Como a pureza do nióbio afeta seu desempenho em aplicações de pulverização catódica?

A maior pureza do nióbio minimiza os microdefeitos e a contaminação por partículas durante a pulverização, o que ajuda a obter uma deposição uniforme do filme. Isso contribui para o controle rigoroso da espessura do filme e melhora a adesão do filme. Para obter mais detalhes técnicos, consulte os parâmetros de processamento para ambientes de alto vácuo.

Quais são as condições de armazenamento recomendadas para alvos rotativos de nióbio?

Armazene o alvo em um ambiente limpo, com baixa umidade e temperatura ambiente controlada para evitar a oxidação e a contaminação da superfície. É recomendável usar embalagens antiestáticas e dessecantes para manter a integridade do material antes do uso em sistemas de pulverização catódica.

As dimensões do alvo podem ser personalizadas para sistemas de pulverização específicos?

Sim, as dimensões são oferecidas como personalizadas. Isso permite a integração em várias configurações de sputtering. Os clientes devem especificar os requisitos durante o pedido para garantir a compatibilidade com o equipamento de deposição.

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