ST11205 Alvo rotativo de níquel-vanádio, alvo de NiV

Descrição do alvo rotativo de níquel vanádio, alvo NiV

O alvo rotativo de níquel-vanádio, alvo NiV, foi projetado para aplicações de pulverização catódica magnetrônica, facilitando a deposição de filmes de níquel-vanádio com propriedades controladas. As dimensões personalizáveis do alvo permitem a integração com diversos sistemas de pulverização, garantindo que a espessura e a uniformidade do filme atendam aos rigorosos requisitos do processo. A estabilidade química inerente da liga de níquel-vanádio é compatível com aplicações em que a integridade e a precisão do filme são essenciais. O acabamento aprimorado da superfície minimiza a contaminação por partículas durante a deposição.

Características do alvo rotativo de níquel-vanádio, alvo de NiV

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo rotativo de níquel vanádio, aplicações de alvo NiV

Eletrônicos
- Usado como alvo de pulverização na fabricação de semicondutores para obter uma deposição uniforme de filme fino, aproveitando as dimensões personalizáveis.

Industrial
- Aplicado como fonte de revestimento em sistemas tribológicos para reduzir o desgaste, utilizando a composição de liga controlada do alvo.

Comercial
- Serve como alvo em sistemas de revestimento decorativo para obter acabamentos de superfície consistentes, aproveitando o controle preciso da deposição de filme.

Alvo rotativo de níquel vanádio, embalagem de alvo de NiV

Os alvos rotativos de níquel vanádio são embalados em recipientes protetores de aço inoxidável revestidos de espuma que minimizam os danos físicos durante o transporte e o armazenamento. A embalagem inclui uma atmosfera de gás inerte para reduzir os riscos de oxidação e emprega materiais de barreira contra umidade para evitar contaminação. Recomenda-se o armazenamento em condições controladas de temperatura e umidade. Soluções de embalagem personalizadas, como opções antiestáticas e seladas a vácuo, estão disponíveis mediante solicitação para atender a requisitos específicos de manuseio.

Informações adicionais

As ligas de níquel-vanádio são amplamente utilizadas em aplicações de sputtering devido às suas propriedades físicas estáveis e ao desempenho consistente sob condições de plasma. Compreender a interação entre a composição do alvo e os parâmetros de pulverização é essencial para obter uma deposição uniforme do filme nos processos de fabricação.

A escolha de materiais para alvos de pulverização afeta significativamente a qualidade dos filmes finos produzidos em setores que vão desde a fabricação de semicondutores até revestimentos decorativos. As pesquisas sobre o comportamento da liga sob condições prolongadas de pulverização catódica continuam a melhorar a eficiência do processo e o desempenho do material em vários ambientes industriais.