ST11210 Alvo planar de carbeto de silício, alvo de SiC

Alvo planar de carbeto de silício, descrição do alvo de SiC

O alvo planar de carbeto de silício, alvo de SiC, é fabricado a partir de carbeto de silício (SiC) e projetado com uma estrutura planar para suportar processos de deposição por pulverização catódica. As dimensões personalizáveis facilitam a integração em vários sistemas de pulverização. A inércia química intrínseca e o alto ponto de fusão do SiC ajudam a manter taxas de deposição estáveis e propriedades uniformes do filme, o que é fundamental em ambientes de fabricação de semicondutores e cerâmicas.

Características do alvo planar de carbeto de silício, alvo de SiC

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo planar de carbeto de silício, aplicações de alvo de SiC

Eletrônicos
- Usado como alvo de sputtering na deposição de filmes finos para obter camadas de revestimento uniformes, aproveitando sua inércia química e seu alto ponto de fusão.
- Aplicado como barreira de difusão em dispositivos semicondutores para manter a integridade do filme durante o processamento em alta temperatura.

Industrial
- Serve como fonte em sistemas de revestimento aprimorados por plasma para melhorar a durabilidade da superfície, aproveitando a estabilidade do material em temperaturas elevadas.
- Usado no processamento de cerâmica para depositar filmes resistentes ao desgaste, aproveitando a microestrutura projetada do alvo.

Automotivo
- Empregado na fabricação de componentes de sensores para produzir camadas protetoras, aproveitando a estabilidade química do carbeto de silício.

Alvo planar de carbeto de silício, embalagem de alvo de SiC

O alvo planar de carbeto de silício, alvo de SiC, é embalado em um invólucro dissipador de estática e fixado em um contêiner de absorção de choque. A embalagem usa materiais inertes para evitar contaminação e é projetada para armazenamento em condições controladas e secas para evitar umidade e flutuações de temperatura. Opções personalizadas, incluindo vedação a vácuo e conteinerização especializada, estão disponíveis para manter a integridade do produto durante o transporte e o manuseio.

Informações adicionais

O carbeto de silício é um material cerâmico conhecido por sua alta condutividade térmica e inércia química. Essas características o tornam adequado para processamento em alta temperatura e aplicações em ambientes agressivos. Suas propriedades inerentes ajudam a manter a estabilidade do desempenho em condições que exigem o mínimo de degradação do material.

Na ciência dos materiais, o controle preciso dos parâmetros do processo e das características do material é essencial. O uso de carbeto de silício em alvos de sputtering exemplifica a integração de microestruturas projetadas com desempenho funcional. Essas aplicações impulsionam os avanços na fabricação de semicondutores e cerâmicas, permitindo a deposição consistente de filmes finos e o controle dos resultados do processo.