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ST11211 Alvo planar de estanho, alvo Sn

Número de catálogo. ST11211
Composição Sn
Pureza ≥99,99%, ou personalizado
Formulário Alvo
Forma Retangular
Dimensões Personalizado

O alvo planar de estanho, Sn Target, é um alvo de sputtering fabricado com estanho de alta pureza para deposição de filmes finos. A Stanford Advanced Materials (SAM) emprega um rigoroso controle de qualidade usando microscopia eletrônica de varredura e profilometria de superfície para verificar a precisão dimensional e a uniformidade da superfície. O processo de produção enfatiza o controle rigoroso da composição e a planicidade plana para apoiar a consistência da deposição em aplicações industriais. A SAM integra o manuseio preciso de materiais e a metrologia em linha durante a fabricação para manter a reprodutibilidade do desempenho.

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FAQ

Quais parâmetros mais afetam o desempenho de pulverização desse alvo de estanho?

A planicidade da superfície e o nível de pureza são essenciais. Os desvios podem afetar a uniformidade do filme e a taxa de deposição. A composição consistente do alvo e as dimensões precisas são essenciais para minimizar a geração de partículas durante o sputtering.

Como os problemas de integração podem ser minimizados ao usar um alvo de pulverização de estanho personalizado?

O controle preciso das dimensões permite a compatibilidade com câmaras de deposição padrão. Confirme se a personalização especificada atende às tolerâncias do equipamento e aos protocolos de limpeza para reduzir os erros de alinhamento e a contaminação por partículas.

Quais métodos de teste são recomendados para verificar a integridade da superfície do alvo de estanho?

É recomendável usar a profilometria de superfície e a microscopia eletrônica de varredura para avaliar a planicidade da superfície e detectar impurezas. Essas técnicas fornecem medições quantitativas que são essenciais para manter o controle do processo. Para obter mais detalhes, entre em contato conosco.

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