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ST11212 Alvo rotativo de estanho, alvo Sn

Número de catálogo. ST11212
Composição Sn
Pureza ≥99,99%, ou personalizado
Formulário Alvo
Forma Tubular
Dimensões Personalizado

O alvo rotativo de estanho, Sn Target, é um material de pulverização produzido a partir de estanho de alta pureza, otimizado para processos de deposição controlada de filme. A Stanford Advanced Materials (SAM) emprega refusão a arco a vácuo e verificação microscópica da superfície para obter propriedades microestruturais consistentes e minimizar as inclusões. A SAM usa avaliações metalográficas quantitativas para garantir o cumprimento de rigorosas tolerâncias dimensionais e de composição. O processo abrangente de controle de qualidade minimiza as impurezas e oferece suporte a resultados previsíveis de deposição.

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FAQ

Quais fatores influenciam a uniformidade da deposição durante o sputtering com alvos rotativos de estanho?

A uniformidade da deposição depende da integridade da superfície do alvo, da composição consistente e da velocidade de rotação. O controle preciso desses parâmetros minimiza a formação de partículas e garante a espessura uniforme do filme nos substratos.

Como as tolerâncias de fabricação dos alvos rotativos de estanho afetam a qualidade do revestimento?

As tolerâncias rigorosas na composição e na dimensão garantem um comportamento uniforme de pulverização. Os métodos aprimorados de verificação de qualidade, como a análise microestrutural, garantem a consistência da espessura do filme e reduzem os defeitos durante o processo de revestimento.

Que precauções devem ser tomadas para manusear alvos rotativos de estanho e evitar contaminação?

É essencial usar luvas antiestáticas e armazenar os alvos em um ambiente limpo e com temperatura controlada. As medidas adequadas de manuseio e embalagem evitam a oxidação e os contaminantes da superfície, mantendo assim o desempenho do sputtering.

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