ST11213 Alvo de pulverização de aluminato de estrôncio, alvo SrAl2O4

Alvo de pulverização de aluminato de estrôncio, SrAl2O4 Descrição do alvo

O alvo de pulverização de aluminato de estrôncio, SrAl2O4, é uma composição cerâmica usada em processos de deposição física de vapor. Composto de SrAl2O4, o alvo é projetado para gerar filmes de óxido uniformes durante a pulverização. Seu design permite a erosão controlada e a geração mínima de partículas. A formulação química precisa do alvo e as opções dimensionais personalizadas garantem a compatibilidade com sistemas de pulverização padrão, aumentando a consistência da deposição em ambientes de fabricação.

Alvo de pulverização de aluminato de estrôncio, SrAl2O4 Características do alvo

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo de pulverização de aluminato de estrôncio, aplicações do alvo SrAl2O4

Eletrônicos
- Usado como alvo de pulverização em sistemas de deposição de filme fino para obter revestimentos de óxido uniformes, aproveitando sua composição química precisa.
- Aplicado na fabricação de semicondutores para produzir camadas dielétricas controladas, melhorando o desempenho do dispositivo por meio da erosão estável do alvo.

Industrial
- Serviu como fonte de revestimento para camadas de óxido decorativas e protetoras no acabamento de metais, enfrentando desafios na obtenção de taxas de deposição consistentes para melhorar a durabilidade da superfície.
- Frequentemente usado na fabricação de dispositivos ópticos, aproveitando a microestrutura controlada para obter camadas de luminescência consistentes.

Alvo de pulverização de aluminato de estrôncio, embalagem de alvo SrAl2O4

O alvo é embalado em recipientes rígidos antiestáticos revestidos com espuma para evitar estresse mecânico e contaminação. A embalagem inclui barreiras contra umidade e é selada com gás inerte para manter a integridade do material. As opções de embalagem personalizada, como vedação a vácuo e compartimentação, estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio.

Informações adicionais

Os alvos de pulverização catódica, como o SrAl2O4, desempenham um papel fundamental na deposição de filmes finos em várias aplicações industriais. O desempenho desses alvos pode influenciar significativamente a uniformidade do filme e as propriedades elétricas em dispositivos que variam de semicondutores a revestimentos ópticos.

Os avanços no processamento de materiais cerâmicos permitiram um controle mais preciso da composição e da microestrutura, o que afeta diretamente o desempenho do sputtering. A compreensão desses princípios científicos é essencial para otimizar os processos de produção em ambientes industriais e de pesquisa.