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ST11221 Alvo planar de sulfeto de zinco, alvo de ZnS

Número de catálogo. ST11221
Composição ZnS
Pureza ≥99,99%, ou personalizado
Formulário Alvo
Forma Retangular
Dimensões Personalizado

O alvo planar de sulfeto de zinco, ZnS, foi projetado para processos precisos de deposição por sputtering. O alvo é fabricado com geometria planar controlada para suportar a formação uniforme de filmes finos. A Stanford Advanced Materials (SAM) emprega inspeções detalhadas de SEM e sinterização em atmosfera controlada para confirmar a homogeneidade do material e o controle de impurezas. Esses protocolos técnicos garantem que o alvo atenda aos requisitos rigorosos para a deposição consistente de filmes em aplicações industriais.

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FAQ

Qual é a importância de usar uma geometria plana em alvos de pulverização de ZnS?

Uma geometria plana garante a espessura uniforme do filme durante a pulverização, reduzindo a variação nas camadas depositadas. Esse recurso é essencial para processos que exigem propriedades ópticas e elétricas consistentes. Entre em contato conosco para obter mais detalhes técnicos.

Como o processo de sinterização afeta a qualidade do alvo de ZnS?

A sinterização controlada promove uma microestrutura homogênea e minimiza as impurezas. Esse processo melhora a densidade do material e o desempenho geral durante a deposição por pulverização catódica. Entre em contato conosco para obter mais informações sobre o processo de fabricação.

As dimensões do alvo de ZnS podem ser personalizadas para sistemas de pulverização específicos?

Sim, as dimensões podem ser personalizadas para atender aos requisitos do equipamento, garantindo a compatibilidade com vários sistemas de pulverização catódica. Essa flexibilidade permite a integração em diversas configurações de deposição, mantendo a uniformidade do filme. Entre em contato conosco para obter opções de personalização.

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