ST11464 Alvo planar de alumínio, titânio e silício, alvo AlTiSi

Alvo planar de alumínio, titânio e silício, AlTiSi Descrição do alvo

O alvo planar de alumínio, titânio e silício, AlTiSi, é fabricado para deposição de filmes finos usando pulverização catódica por magnetron. O alvo apresenta uma mistura homogênea de alumínio, titânio e silício que reduz as variações durante o processo de deposição. Sua configuração plana ajuda a manter uma distribuição de energia consistente e suporta a compatibilidade com sistemas de pulverização padrão. O controle de qualidade espectroscópico monitora a composição elementar e a uniformidade da superfície.

Alvo planar de alumínio, titânio e silício, aplicações do alvo AlTiSi

Eletrônicos
- Usado como fonte de sputtering na fabricação de semicondutores para obter deposição uniforme de filmes finos, aproveitando sua composição homogênea de AlTiSi.
- Aplicado na fabricação de painéis de exibição para a formação de camadas condutoras, utilizando sua superfície plana consistente.

Industrial
- Serve como material-alvo em processos de revestimento para filmes protetores a fim de resolver inconsistências de deposição por meio de propriedades de erosão uniforme.
- Utilizado em sistemas de revestimento óptico para manter taxas de deposição estáveis, aproveitando sua estrutura plana uniforme.

Alvo planar de alumínio, titânio e silício, embalagem do alvo de AlTiSi

O alvo é selado em um saco anticorrosão livre de estática e amortecido com espuma dentro de uma caixa externa rígida para inibir danos mecânicos e contaminação. Recomenda-se uma embalagem resistente à umidade e condições de armazenamento com temperatura controlada para manter a integridade da superfície. Soluções de embalagem personalizadas estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio e armazenamento.

Informações adicionais

Os alvos de pulverização desempenham um papel fundamental nos processos de deposição física de vapor, em que a uniformidade do material afeta diretamente o desempenho do filme fino. Uma composição consistente do alvo minimiza as variações durante o crescimento do filme, o que é essencial para aplicações em tecnologias de semicondutores e de telas.

Os avanços na fabricação de alvos têm se concentrado em obter superfícies planas consistentes e composições controladas. Essas melhorias permitem maior reprodutibilidade nos sistemas de deposição, otimizando assim o desempenho em várias aplicações eletrônicas e industriais.