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ST11466 Alvo planar de cobre e zinco, alvo de CuZn

Número de catálogo. ST11466
Composição CuZn
Forma Retangular
Formulário Alvo
Pureza Cu+Zn: ≥99%

O alvo planar de cobre e zinco, alvo CuZn, é produzido usando um processo de fabricação planar de precisão. A Stanford Advanced Materials (SAM) aplica técnicas de liga controlada e realiza inspeções microscópicas de superfície para minimizar inconsistências microestruturais. O produto passa por um procedimento sistemático de controle de qualidade que inclui verificação dimensional e medição da rugosidade da superfície. Essa abordagem garante um desempenho consistente do material, adequado para aplicações de sputtering e processos precisos de deposição de filmes finos.

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FAQ

Qual é o impacto da configuração planar no desempenho da pulverização?

O design plano proporciona erosão uniforme do alvo durante a pulverização, o que melhora a uniformidade da espessura do filme nos substratos. Essa configuração precisa da superfície minimiza as variações na taxa de deposição, melhorando a consistência do filme em ambientes de pesquisa e produção. Entre em contato conosco para obter mais esclarecimentos técnicos.

Como a composição de CuZn é mantida durante a fabricação do alvo?

A liga CuZn é preparada com controles metalúrgicos rigorosos que garantem a homogeneidade. A análise espectroscópica avançada confirma as proporções elementares durante o processamento. Essa atenção aos detalhes minimiza as variações de composição que poderiam afetar a consistência do sputtering. Entre em contato conosco se precisar de mais detalhes técnicos.

Existem métodos específicos de preparação de superfície usados para esse material-alvo?

Sim, a superfície é submetida a polimento mecânico e a protocolos de limpeza subsequentes para reduzir contaminantes e defeitos de superfície. Esses tratamentos garantem condições de superfície ideais para a pulverização catódica, contribuindo para a formação consistente de filmes finos. Entre em contato conosco para obter mais orientações técnicas.

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