ST11470 Alvo planar de níquel-cobalto-ferro, alvo NiCoFe

Alvo planar de níquel-cobalto-ferro, descrição do alvo de NiCoFe

O alvo plano de níquel-cobalto-ferro, alvo de NiCoFe, é composto por uma liga uniforme de NiCoFe otimizada para aplicações de sputtering. A geometria plana do alvo facilita o bombardeio homogêneo de íons durante a deposição, contribuindo para o crescimento uniforme do filme nos substratos. Projetado para ser compatível com equipamentos padrão de semicondutores e de deposição de filmes finos, suas propriedades materiais ajudam a controlar a microestrutura e a minimizar os defeitos durante o processo de revestimento.

Aplicações do alvo planar de níquel-cobalto-ferro, alvo NiCoFe

Eletrônicos
- Usado como fonte de sputtering na fabricação de dispositivos semicondutores para obter uma deposição uniforme de filmes finos, aproveitando a composição controlada da liga.
- Aplicado como material catódico na fabricação de telas planas para formar camadas condutoras com espessura uniforme.

Industrial
- Utilizado em aplicações de revestimento para componentes ópticos em que são necessários filmes metálicos uniformes, aproveitando a superfície plana do alvo para garantir a deposição homogênea.
- Utilizado na produção de células solares para depositar contatos metálicos com propriedades de filme consistentes.

Alvo plano de níquel-cobalto-ferro, embalagem do alvo de NiCoFe

O alvo é embalado em um contêiner antiestático de grau de sala limpa com inserções de espuma para minimizar os impactos mecânicos. Sacos selados a vácuo protegem o alvo contra contaminação durante o transporte e o armazenamento. A embalagem inclui barreiras contra umidade e etiquetas de controle de temperatura para manter a integridade do material. Opções de embalagens personalizadas estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio e armazenamento.

Informações adicionais

Os alvos de pulverização desempenham um papel fundamental nos processos de deposição de filmes finos, garantindo a liberação controlada de material durante o bombardeio de íons. A uniformidade da liga de NiCoFe influencia diretamente a microestrutura do filme, o que é essencial para aplicações em microeletrônica e óptica. Compreender a composição do alvo e a qualidade da superfície é fundamental para otimizar os parâmetros de deposição e obter as características desejadas do filme.

O desenvolvimento de alvos planares envolve medidas rigorosas de controle de qualidade, incluindo análise morfológica e perfilamento de superfície. Essas avaliações ajudam a correlacionar as propriedades do material com o desempenho da deposição, apoiando resultados reproduzíveis em ambientes de pesquisa e produção industrial.