ST7952 Molybdenum Sputtering Target 99,9%, Dia. 2 polegadas

Alvo de pulverização de molibdênio 99,9%, Dia. 2 polegadas Descrição

Nosso alvo de pulverização de molibdênio se destaca por sua pureza excepcional de 99,9% (Mo), precisamente projetado em um disco de 2 polegadas de diâmetro. O molibdênio é valorizado por seu alto ponto de fusão, resistência mecânica robusta e excelente resistência à corrosão, o que o torna uma opção versátil em aplicações de deposição de película fina. Essas propriedades permitem um desempenho confiável em setores como o de fabricação de semicondutores, produção de células solares e revestimentos avançados para componentes aeroespaciais.

Fabricado sob rígidos padrões de qualidade, esse alvo passa por uma inspeção rigorosa para garantir uma estrutura uniforme e o mínimo de impurezas. Sua alta densidade e baixo teor de gás promovem a produção eficiente de camadas uniformes e estáveis, reduzindo a probabilidade de defeitos. Escolha o nosso alvo de pulverização de molibdênio para obter uma deposição de filme consistente, rendimento otimizado e a confiança que vem de trabalhar com um material confiável e de alta qualidade.

Alvo de pulverização de molibdênio 99,9%, Dia. 2 polegadas Aplicações

O alvo de pulverização de molibdênio 99,9% Dia. 2 polegadas é amplamente utilizado em vários setores para criar filmes finos e revestimentos. Com seu alto ponto de fusão, excelente estabilidade térmica e notável condutividade elétrica, o Mo garante a deposição consistente e uniforme de filmes finos. Sua resistência superior à corrosão e sua força mecânica sustentam o desempenho de longo prazo, tornando-o um material essencial para aplicações avançadas em eletrônica, óptica e muito mais.

1. Aplicações de deposição de filmes finos

- Revestimento PVD: A alta condutividade e a estabilidade do Mo permitem revestimentos duráveis e uniformes para componentes em ambientes aeroespaciais e industriais

- Magnetron Sputtering: A robustez térmica e mecânica do Mo garante contaminação mínima e melhor controle de deposição

- Filmes resistentes ao desgaste: A forte dureza do Mo oferece maior proteção para peças que operam em ambientes exigentes.

2. Aplicações de semicondutores

- Circuitos integrados: A estabilidade do Mo em altas temperaturas e as fortes propriedades de adesão facilitam a formação de filmes ultrafinos em wafers de silício.

- Eletrodos de porta: A baixa resistividade e a excelente integridade estrutural permitem o controle preciso dos sinais eletrônicos

- Camadas de blindagem: A resistência à corrosão do Mo protege os recursos sensíveis na fabricação de semicondutores avançados.

3. Aplicações de revestimento óptico

- Revestimentos antirreflexo: As características de pulverização uniforme do Mo ajudam a obter um controle preciso da espessura para melhorar a transmissão.

- Revestimentos espelhados: A refletividade e a durabilidade aprimoradas suportam sistemas ópticos de alto desempenho

- Divisores de feixe: As propriedades ópticas estáveis do Mo garantem o gerenciamento confiável do caminho da luz em dispositivos ópticos sofisticados.

Alvo de pulverização de molibdênio 99,9%, Dia. 2 polegadas Embalagem

O alvo de pulverização de molibdênio 99,9%, Dia. 2 polegadas, é embalado com espuma ou plástico bolha para minimizar o impacto. Ele é selado a vácuo em um filme resistente à umidade para conter a oxidação, complementado por pacotes anticorrosão. Cada rótulo inclui especificações do produto e diretrizes de manuseio. Soluções de embalagem personalizadas, como inserções especializadas ou rotulagem privada, estão disponíveis para atender a requisitos exclusivos. Isso garante a integridade do alvo e a vida útil prolongada.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Alvo de pulverização de molibdênio 99,9%, Dia. 2 polegadas Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do alvo de pulverização de molibdênio 99,9%, Dia. 2 polegadas?

A1: Esse alvo de sputtering de molibdênio, com pureza de 99,9%, apresenta alto ponto de fusão (2623°C), excelente condutividade térmica e elétrica e forte resistência à corrosão. Ele tem uma microestrutura de granulação fina que promove a deposição uniforme de filmes finos. A densidade normalmente se aproxima de 10,22 g/cm³, garantindo baixa porosidade. A alta pureza reduz as impurezas que podem degradar a qualidade do filme, tornando-o ideal para aplicações em semicondutores, telas e energia solar.

P2: Como esse alvo de sputtering de Mo pode ser processado ou fabricado?

A2: Normalmente, esses alvos são produzidos usando metalurgia do pó ou métodos de fundição a arco a vácuo. A metalurgia do pó envolve a moagem de pó de molibdênio de alta pureza, a prensagem em uma forma desejada e a sinterização em alta temperatura para atingir a densidade necessária. A fundição em arco pode produzir lingotes de alta pureza que são então laminados, forjados ou usinados em formas finais. Ambos os processos dependem de aquecimento e resfriamento controlados para minimizar o tamanho dos grãos e garantir propriedades uniformes do material.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao Molybdenum Sputtering Target 99.9%, Dia. 2 polegadas?

R3: Esses alvos de pulverização de molibdênio normalmente estão em conformidade com as especificações ASTM B386 para placas, folhas e lâminas de molibdênio. Os fabricantes geralmente possuem certificações ISO 9001 para garantir a produção consistente e o gerenciamento da qualidade. Testes analíticos, como GD-MS ou ICP, são realizados para verificar níveis de pureza de 99,9% ou mais. A rastreabilidade do material e a conformidade com as normas RoHS também podem ser fornecidas, demonstrando a adesão aos rigorosos requisitos internacionais de segurança e responsabilidade ambiental.

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1. Matérias-primas - Materiais de Mo

O Mo é um material valioso usado em várias aplicações de sputtering. Ele é extraído e purificado por meio de operações de processamento avançadas. A Stanford Advanced Materials obtém materiais de alta qualidade de fornecedores confiáveis, garantindo a qualidade e a consistência de nossos produtos de alvo de pulverização.

2. Fabricação de alvos de pulverização

Vários métodos são usados para produzir alvos de pulverização de Mo, incluindo a metalurgia do pó. Cada método resulta em diferentes características de alvo, como densidade, estrutura de grãos e propriedades de superfície. O método de fabricação é selecionado com base nos requisitos da aplicação pretendida e nas especificações de desempenho.