ST7953 Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 2 polegadas

Alvo de pulverização catódica de molibdênio 99%, Dia. 2 polegadas Descrição

Esse alvo de pulverização de molibdênio, com 99% de pureza e 2 polegadas de diâmetro, foi projetado para atender aos requisitos de alto desempenho na fabricação avançada. Reconhecido por sua excepcional resistência mecânica, alto ponto de fusão e condutividade térmica superior, o molibdênio se destaca em ambientes exigentes onde a confiabilidade é fundamental. Essas propriedades o tornam a escolha ideal para processos de deposição de filmes finos, especialmente em aplicações de semicondutores e eletrônicos, em que a precisão e a eficiência são cruciais.

Fabricado de acordo com rigorosos padrões de qualidade, esse alvo de sputtering passa por uma inspeção rigorosa para garantir o mínimo de impurezas, espessura uniforme e microestrutura consistente. Ao manter um controle rígido sobre os parâmetros de produção, ele proporciona taxas de pulverização altamente estáveis e resultados reproduzíveis em vários ciclos de revestimento. Se estiver trabalhando em dispositivos semicondutores, telas planas ou componentes de células solares, esse alvo de pulverização de molibdênio oferece um equilíbrio de pureza, desempenho e consistência essencial para seus projetos mais críticos.

Alvo de pulverização de molibdênio 99%, Dia. 2 polegadas Aplicações

Os alvos de pulverização de molibdênio com 99% de pureza são valorizados por suas robustas propriedades mecânicas e térmicas, o que os torna ideais para a criação de revestimentos de alta qualidade em vários setores. Com um diâmetro de 2 polegadas, esses alvos produzem filmes finos excepcionalmente uniformes, mantendo excelente resistência à corrosão. Eles também possuem condutividade elétrica e dureza excepcionais, o que favorece o desempenho superior em aplicações críticas que vão de dispositivos eletrônicos a sistemas ópticos avançados.

1. Aplicações de deposição de filmes finos

- Revestimento PVD: Aproveita o alto ponto de fusão e a estabilidade do molibdênio para produzir filmes finos com excelente adesão e espessura uniforme.

- Magnetron Sputtering: Garante a consistência superior do filme e melhora a cobertura do substrato devido à alta densidade e condutividade do molibdênio.

2. Aplicações de semicondutores

- Circuitos integrados: Usa a baixa resistividade e a estabilidade térmica do molibdênio para interconexões confiáveis, melhorando o desempenho geral do dispositivo.

- Componentes eletrônicos: Beneficia-se da resistência à corrosão e da durabilidade do molibdênio, mantendo a integridade sob condições operacionais exigentes.

3. Aplicações de revestimento óptico

- Revestimentos antirreflexo: Emprega a capacidade do molibdênio para o controle preciso do filme, resultando em maior clareza óptica.

- Revestimentos espelhados: Utiliza a dureza e a refletividade do molibdênio para proporcionar superfícies espelhadas altamente refletivas e duradouras.

Alvo de pulverização catódica de molibdênio 99%, Dia. Embalagem de 2 polegadas

Nosso Molybdenum Sputtering Target (99%, diâmetro de 2 polegadas) é cuidadosamente embalado para garantir a máxima proteção. Cada peça é embalada individualmente com espuma protetora e, em seguida, selada a vácuo para evitar a infiltração de poeira e umidade. Uma camada anti-oxidação especializada é adicionada para preservar a pureza durante o armazenamento e o transporte. A embalagem pode ser personalizada mediante solicitação, incluindo rotulagem específica, amortecimento adicional ou dimensões ajustadas de acordo com suas necessidades.

Embalagem: Selado a vácuo, caixa de madeira ou personalizado.

Alvo de pulverização catódica de molibdênio 99%, Dia. 2 polegadas Perguntas frequentes

Q1: Quais são as principais propriedades do material do Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 2 polegadas?

A1: O alvo de pulverização de molibdênio 99%, Dia. 2 inch apresenta um alto ponto de fusão (2.623°C) e excelente condutividade térmica e elétrica. Com um nível de pureza de 99%, ele oferece comportamento mecânico estável e excelente resistência à corrosão em muitos ambientes. Sua densidade de aproximadamente 10,22 g/cm³ aumenta sua adequação para a deposição de filmes finos. A microestrutura homogênea do alvo garante taxas de sputtering uniformes, o que contribui para um desempenho de revestimento confiável e de alta qualidade.

P2: Como esse alvo de sputtering de Mo pode ser processado ou fabricado?

A2: Esse alvo de pulverização de Mo é normalmente produzido por meio de um processo de metalurgia do pó seguido de forjamento ou laminação para atingir suas dimensões finais. O pó de molibdênio inicial é compactado e sinterizado em altas temperaturas, garantindo a densidade e a microestrutura ideais. A usinagem e o polimento subsequentes refinam o acabamento e a planicidade da superfície do alvo. Essas etapas cuidadosas de fabricação ajudam a manter a pureza do material e promovem um desempenho consistente de pulverização durante a deposição de filmes finos.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 2 polegadas?

R3: Esses alvos de pulverização de molibdênio geralmente são produzidos sob rigorosos sistemas de garantia de qualidade, como o ISO 9001, para assegurar a consistência e a rastreabilidade do material. Eles também podem estar em conformidade com as especificações do setor, como a ASTM B523, para barras e bastões de molibdênio. Normalmente, os fabricantes fornecem certificados de análise que indicam pureza, densidade e propriedades mecânicas. Inspeções e testes rigorosos garantem desempenho uniforme, resultados reproduzíveis e revestimentos de película fina confiáveis.

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1. Matérias-primas - Materiais de Mo

O Mo é um material valioso usado em várias aplicações de sputtering. Ele é extraído e purificado por meio de operações de processamento avançadas. A Stanford Advanced Materials obtém materiais de alta qualidade de fornecedores confiáveis, garantindo a qualidade e a consistência de nossos produtos de alvo de pulverização.

2. Fabricação de alvos de pulverização

Vários métodos são usados para produzir alvos de pulverização de Mo, incluindo a metalurgia do pó. Cada método resulta em diferentes características de alvo, como densidade, estrutura de grãos e propriedades de superfície. O método de fabricação é selecionado com base nos requisitos da aplicação pretendida e nas especificações de desempenho.