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ST7953 Alvo de pulverização catódica de molibdênio (Mo) 99%, Dia. 2 polegadas

Número de catálogo. ST7953
Composição Mo
Pureza 99%
Formulário Alvo

A Stanford Advanced Materials fornece alvos de pulverização de molibdênio (Mo) com 99% de pureza e 2 polegadas de diâmetro, projetados para deposição de filmes finos em semicondutores, telas planas e células solares. Nossos alvos oferecem desempenho de pulverização confiável, filmes finos uniformes e resultados consistentes em vários ciclos de revestimento.

Cada alvo é fabricado por meio de metalurgia do pó avançada, forjamento e usinagem de precisão, garantindo uma microestrutura homogênea e resultados reproduzíveis. A SAM também oferece tamanhos personalizados e graus de pureza mais altos (até 99,95%) mediante solicitação.

Produtos relacionados: Alvo de pulverização de boreto de molibdênio (Mo2B5), Alvo de pulverização de tântalo-molibdênio (Ta/Mo), Alvo de pulverização de molibdênio-silício (MoSi)

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