ST7954 Molybdenum Sputtering Target 99,95%, Dia. 4 polegadas

Alvo de pulverização de molibdênio 99,95%, Dia. 4 polegadas Descrição

Esse alvo de pulverização de molibdênio é fabricado com precisão com 99,95% de Mo puro, garantindo o mínimo de impurezas para deposição de película fina de alta qualidade. Com um diâmetro de 4 polegadas, ele fornece uma ampla área de superfície para processos de pulverização consistentemente confiáveis. A excepcional condutividade térmica e o alto ponto de fusão do molibdênio contribuem para uma excelente resistência ao calor, tornando-o a melhor opção para aplicações exigentes na fabricação de semicondutores, células solares e displays avançados. Seu baixo coeficiente de expansão térmica aumenta ainda mais a estabilidade dimensional, permitindo resultados de revestimento uniformes e repetíveis.

Controles de qualidade rigorosos regem cada estágio da produção, desde a seleção da matéria-prima até a inspeção final. Graças à sua densa microestrutura e à composição finamente controlada, esse alvo proporciona taxas de pulverização eficientes e notável uniformidade de filme. O nível de pureza de 99,95% reduz o risco de contaminação, permitindo que as operações comerciais e de pesquisa obtenham resultados precisos e repetíveis com confiança.

Alvo de pulverização de molibdênio 99,95%, Dia. 4 polegadas Aplicações

Os alvos de sputtering de molibdênio (Mo) com 99,95% de pureza são altamente valorizados por sua excelente condutividade térmica e elétrica, alto ponto de fusão e forte resistência à corrosão. Essa combinação exclusiva de propriedades os torna indispensáveis em várias aplicações avançadas. O formato de 4 polegadas de diâmetro oferece compatibilidade com uma variedade de sistemas de pulverização, garantindo a deposição consistente e uniforme do filme. Como resultado, os alvos de Mo servem como um material essencial na deposição de filmes finos, na fabricação de semicondutores e nos processos de revestimento óptico.

1. Aplicações de deposição de filmes finos

- Revestimento PVD: O alto ponto de fusão e a pureza do molibdênio garantem a deposição confiável do filme, oferecendo dureza e estabilidade térmica superiores.

- Magnetron Sputtering: A estrutura uniforme do alvo facilita o controle consistente da espessura das camadas de filme fino, melhorando o desempenho do dispositivo.

2. Aplicações de semicondutores

- Circuitos integrados: Os filmes finos de Mo atuam como barreiras de difusão e camadas condutoras, contribuindo para reduzir as taxas de defeitos na fabricação de microchips.

- Componentes eletrônicos: Suas propriedades robustas de ligação ajudam a otimizar o desempenho em aplicações como transistores e diodos.

3. Aplicações de revestimento óptico

- Revestimentos antirreflexo: O uso do Mo como camada de apoio melhora a clareza óptica e mantém a durabilidade em ambientes adversos.

- Revestimentos espelhados: A excelente refletividade e a estabilidade do molibdênio sob altas temperaturas o tornam ideal para sistemas ópticos de precisão.

Alvo de pulverização de molibdênio 99,95%, Dia. Embalagem de 4 polegadas

O alvo de pulverização de molibdênio 99,95% com Dia. 4 polegadas é cuidadosamente embalado com inserções de espuma protetora para evitar danos. Em seguida, uma bolsa plástica selada a vácuo é usada para proteger o alvo da oxidação. Pacotes opcionais de sílica gel absorvente de umidade também estão incluídos. Por fim, o alvo é colocado em uma caixa de madeira ou papelão resistente com etiquetas de advertência. Tamanhos de embalagens e marcas personalizadas podem ser organizados para atender a necessidades específicas de remessa e manuseio.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Alvo de pulverização catódica de molibdênio 99,95%, Dia. 4 polegadas Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do alvo de pulverização de molibdênio 99,95%, Dia. 4 polegadas?

A1: Os alvos de pulverização de molibdênio com 99,95% de pureza são conhecidos por sua excelente condutividade, estrutura cristalina estável, tolerância a altas temperaturas e baixa pressão de vapor. Eles têm alta densidade (cerca de 10,2 g/cm³), um ponto de fusão acima de 2.600°C e apresentam forte resistência à corrosão. Esses atributos garantem uma deposição de filme consistente e uniforme, tornando-os adequados para aplicações exigentes, como dispositivos semicondutores, transistores de filme fino e revestimentos de telas.

P2: Como esse alvo de sputtering de molibdênio pode ser processado ou fabricado?

A2: Os alvos de pulverização de molibdênio são normalmente produzidos por meio de metalurgia do pó, começando com pó de molibdênio de alta pureza que é compactado e sinterizado sob condições rigorosamente controladas. Após a sinterização, o material pode ser laminado a quente ou forjado para obter uma estrutura de grãos uniforme e densidade aprimorada. Em seguida, a usinagem de precisão garante o diâmetro de 4 polegadas e a espessura específica necessários. Tratamentos térmicos adicionais ajudam a otimizar as propriedades mecânicas e a melhorar o desempenho da pulverização catódica.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 4 polegadas?

R3: Os alvos de molibdênio com 99,95% de pureza normalmente estão em conformidade com a ASTM B386 ou com especificações industriais equivalentes para composição química e propriedades mecânicas. Muitos fabricantes mantêm sistemas de gerenciamento de qualidade com certificação ISO 9001 que regem a rastreabilidade, os controles de processo e as inspeções finais. Além disso, a conformidade com RoHS e REACH pode ser exigida, garantindo que as substâncias restritas sejam minimizadas. Testes rigorosos, incluindo inspeção ultrassônica, verificação dimensional e análise de composição, confirmam a conformidade com esses padrões.

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O Mo é um material valioso usado em várias aplicações de sputtering. Ele é extraído e purificado por meio de operações de processamento avançadas. A Stanford Advanced Materials obtém materiais de alta qualidade de fornecedores confiáveis, garantindo a qualidade e a consistência de nossos produtos de alvo de pulverização.

2. Fabricação de alvos de pulverização

Vários métodos são usados para produzir alvos de pulverização de Mo, incluindo a metalurgia do pó. Cada método resulta em diferentes características de alvo, como densidade, estrutura de grãos e propriedades de superfície. O método de fabricação é selecionado com base nos requisitos da aplicação pretendida e nas especificações de desempenho.