ST7956 Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 4 polegadas

Alvo de pulverização catódica de molibdênio 99%, Dia. 4 polegadas Descrição

Composto por 99,0% de molibdênio puro, esse alvo de pulverização de 4 polegadas de diâmetro oferece excelente desempenho para uma ampla gama de aplicações de revestimento de filme fino. O alto ponto de fusão do molibdênio, a condutividade térmica superior e a resistência mecânica robusta fazem dele a escolha ideal para a fabricação de semicondutores, células solares e componentes ópticos. Sua microestrutura refinada garante a formação uniforme do filme e uma ligação confiável durante o processo de pulverização, ajudando a obter camadas uniformes e resultados consistentes.

Fabricado sob rigorosos padrões de qualidade, esse alvo de sputtering de molibdênio atende aos requisitos exigentes de ambientes avançados de pesquisa e produção. A química equilibrada e o baixo teor de impurezas garantem a qualidade ideal de deposição, enquanto a usinagem de precisão assegura a compatibilidade com uma variedade de sistemas de pulverização. Confie nesse alvo para manter a integridade do processo, melhorar o rendimento do produto e apoiar metas de design inovadoras em setores de ponta.

Alvo de pulverização de molibdênio 99%, Diâm. 4 polegadas Aplicações

Os alvos de pulverização de molibdênio (Mo) com 99% de pureza e diâmetro de 4 polegadas oferecem resistência superior à erosão, estabilidade em alta temperatura e deposição consistente de filme para processos de fabricação avançados. Por ser um material de alta densidade com excelente condutividade térmica e elétrica, o molibdênio é a melhor opção para a deposição de filmes finos em vários setores. Esta introdução destaca as principais aplicações na deposição de filmes finos, produção de semicondutores e revestimento óptico, mostrando como as propriedades exclusivas do Mo ajudam a obter revestimentos confiáveis e uniformes.

1. Aplicações de deposição de filmes finos

- Revestimento PVD: A excelente resistência à erosão do molibdênio garante uma transferência estável do material e uma vida útil prolongada do alvo.

- Magnetron Sputtering: A alta densidade do Mo ajuda a obter uma espessura uniforme de filme fino com o mínimo de contaminação.

2. Aplicações de semicondutores

- Circuitos integrados: A forte condutividade do molibdênio permite um fluxo de corrente confiável e conexões de circuito precisas.

- Contatos de transistores: As propriedades estáveis da interface do Mo permitem um melhor desempenho do dispositivo e taxas de falha reduzidas.

3. Aplicações de revestimento óptico

- Revestimentos antirreflexo: As camadas de molibdênio ajudam a otimizar a transmissão de luz e a minimizar o brilho.

- Revestimentos espelhados: Os revestimentos robustos de molibdênio proporcionam maior refletividade e durabilidade a longo prazo em condições desafiadoras.

Alvo de pulverização de molibdênio 99%, Dia. Embalagem de 4 polegadas

Cada alvo de pulverização catódica de molibdênio (99%, diâmetro de 4 polegadas) é cuidadosamente selado em um invólucro protetor de camada dupla para evitar arranhões ou contaminação. Em seguida, é colocado em um saco plástico selado a vácuo para garantir a secura e minimizar a oxidação. Por fim, um contêiner externo rígido com inserções de espuma evita danos por impacto. Materiais antioxidantes são incluídos para prolongar o prazo de validade. Opções de embalagem personalizadas estão disponíveis mediante solicitação.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Alvo de pulverização catódica de molibdênio 99%, Dia. 4 polegadas Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 4 polegadas?

A1: Esse alvo de pulverização catódica normalmente apresenta um alto ponto de fusão de cerca de 2623°C, excelente condutividade térmica e excepcional resistência ao calor e ao desgaste. Sua densidade de aproximadamente 10,2 g/cm³ e 99% de pureza garantem composição uniforme e contaminação mínima. Além disso, a microestrutura de granulação fina contribui para taxas de pulverização estáveis e deposição de filme suave, enquanto seu baixo coeficiente de expansão térmica ajuda a manter a integridade dimensional durante processos de alta temperatura.

P2: Como esse alvo de sputtering de Mo pode ser processado ou fabricado?

A2: O alvo é geralmente produzido usando metalurgia do pó e técnicas de conformação subsequentes. Primeiro, o pó de molibdênio de alta pureza é compactado ou sinterizado sob vácuo para obter um material denso. Etapas adicionais, como forjamento a quente ou laminação, podem refinar ainda mais a microestrutura. Por fim, as operações de usinagem, como torneamento ou retificação, garantem um diâmetro preciso de 4 polegadas e alcançam o acabamento de superfície necessário para o desempenho ideal da pulverização catódica.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 4 polegadas?

R3: A maioria dos fabricantes adere à ISO 9001 para o gerenciamento geral da qualidade e também pode estar em conformidade com a ASTM B386 ou especificações equivalentes que regem os produtos de molibdênio. Em certos casos, os alvos podem atender às diretrizes RoHS e REACH para confirmar o uso restrito de substâncias perigosas. Protocolos rigorosos de rastreabilidade, testes de composição química e inspeções dimensionais são implementados para garantir que cada alvo atenda à consistência do produto e aos requisitos regulatórios internacionais.

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1. Matérias-primas - Materiais de Mo

O Mo é um material valioso usado em várias aplicações de sputtering. Ele é extraído e purificado por meio de operações de processamento avançadas. A Stanford Advanced Materials obtém materiais de alta qualidade de fornecedores confiáveis, garantindo a qualidade e a consistência de nossos produtos de alvo de pulverização.

2. Fabricação de alvos de pulverização

Vários métodos são usados para produzir alvos de pulverização de Mo, incluindo a metalurgia do pó. Cada método resulta em diferentes características de alvo, como densidade, estrutura de grãos e propriedades de superfície. O método de fabricação é selecionado com base nos requisitos da aplicação pretendida e nas especificações de desempenho.