ST7959 Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 6 polegadas

Alvo de pulverização catódica de molibdênio 99%, Dia. 6 polegadas Descrição

Nosso alvo de pulverização de molibdênio, com um nível de pureza de 99,0%, oferece uma integridade excepcional do material para aplicações de deposição de filmes finos de alto desempenho. Esse alvo de seis polegadas de diâmetro é composto de molibdênio de alta qualidade, conhecido por sua excelente condutividade elétrica, alto ponto de fusão e resistência superior à corrosão. Sua resistência mecânica e estabilidade térmica garantem resultados consistentes e confiáveis, mesmo sob condições rigorosas de pulverização.

Meticulosamente fabricado sob rigorosos padrões de controle de qualidade, esse alvo apresenta uma estrutura de grãos uniforme que promove taxas de pulverização estáveis e uniformidade ideal da espessura do filme. Ideal para uso na fabricação de semicondutores, produção de células solares e vários processos de revestimento, nosso alvo de pulverização de molibdênio oferece desempenho confiável e atende aos exigentes requisitos do setor. Confie em suas excelentes propriedades e qualidade consistente para uma deposição precisa e eficiente de filmes finos.

Alvo de pulverização de molibdênio 99%, Dia. 6 polegadas Aplicações

Esse alvo de pulverização catódica de molibdênio, com 99% de pureza e 6 polegadas de diâmetro, oferece notável resistência mecânica, alto ponto de fusão e condutividade térmica superior. É amplamente utilizado em diversos setores que exigem precisão e confiabilidade na deposição de filmes finos. Sua resistência à corrosão e propriedades elétricas estáveis o tornam um componente essencial para revestimentos avançados nos campos de semicondutores, eletrônicos e ópticos. Abaixo estão algumas das principais áreas em que ele encontra aplicação significativa.

1. aplicações de deposição de filmes finos

-Revestimento PVD: Utilizado para criar revestimentos uniformes e de alta densidade com excelente adesão e durabilidade.

-Magnetron Sputtering: Garante a geração estável de plasma e a espessura consistente do filme devido à tolerância do molibdênio a altas temperaturas.

-Sputtering por feixe de íons: Facilita o controle preciso da espessura do filme e a alta utilização do alvo, reduzindo os custos de produção.

2. aplicações de semicondutores

-Formação de eletrodo de porta: Proporciona desempenho elétrico confiável e longevidade graças à sua condutividade estável.

-Camadas de barreira: oferece controle eficaz da difusão nas estruturas dos dispositivos, aumentando a confiabilidade e o desempenho dos componentes.

-Elementos de embalagem de chips: Contribui para soluções robustas de embalagem, suportando o estresse térmico em dispositivos de alta tecnologia.

3. aplicações de revestimento óptico

-Espelhos a laser: minimiza a distorção térmica e resiste a danos induzidos por laser, garantindo um desempenho confiável do espelho.

-Divisores de feixe: permitem proporções precisas de reflexão/transmissão, aproveitando o comportamento consistente de pulverização do molibdênio.

-Revestimentos de filtros: proporcionam excelente clareza óptica e espessura de camada uniforme em filtros especializados.

Alvo de pulverização catódica de molibdênio 99%, Dia. Embalagem de 6 polegadas

Nosso alvo de pulverização de molibdênio (99%, diâmetro de 6 polegadas) é primeiramente envolvido em filme plástico com dessecante para manter a umidade afastada e, em seguida, acolchoado com espuma de polietileno para proteção contra impactos. Em seguida, é selado a vácuo em uma bolsa de papel alumínio para evitar oxidação e contaminação. Por fim, é enviado em uma caixa de papelão ondulado robusta. Etiquetagem personalizada, camadas de proteção adicionais e materiais de contêineres alternativos estão disponíveis mediante solicitação.

Embalagem: Selado a vácuo, caixa de madeira ou personalizado.

Alvo de pulverização catódica de molibdênio 99%, Dia. 6 polegadas Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 6 polegadas?

A1: O alvo de pulverização de molibdênio 99%, Dia. 6 inch é caracterizado normalmente por um alto ponto de fusão (~2620°C), excelente condutividade térmica e excelente resistência mecânica em altas temperaturas. Com uma pureza de 99%, ele apresenta baixos níveis de impureza que suportam um desempenho consistente de sputtering e deposição uniforme de filme. O diâmetro de 6 polegadas proporciona uma ampla área de superfície para processos de revestimento eficientes e aumenta a vida útil do alvo, reduzindo a frequência de substituições de alvos.

P2: Como esse alvo de sputtering de molibdênio pode ser processado ou fabricado?

A2: Os alvos de molibdênio podem ser fabricados por meio de metalurgia do pó, prensagem isostática a quente (HIP) ou sinterização a vácuo, o que garante a densidade ideal e o refinamento dos grãos. Após o processo de densificação inicial, o alvo é frequentemente usinado até a espessura desejada e polido para produzir uma superfície lisa. O manuseio cuidadoso é essencial para evitar contaminação e danos microestruturais, garantindo propriedades consistentes do filme e desempenho confiável durante as aplicações de sputtering.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 6 polegadas?

R3: Esses alvos de pulverização de molibdênio normalmente estão em conformidade com a rigorosa norma ASTM B386 ou especificações de materiais equivalentes. Os processos de fabricação geralmente estão em conformidade com os sistemas de gerenciamento de qualidade ISO 9001, garantindo a rastreabilidade das matérias-primas, dos parâmetros de produção e da inspeção final. A verificação da pureza pode ser realizada por meio de análises ICP-MS ou GD-MS. Além disso, é fornecida uma documentação abrangente sobre composição química, medições dimensionais e propriedades mecânicas para manter a qualidade líder do setor e a consistência do produto.

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1. Matérias-primas - Materiais de Mo

O Mo é um material valioso usado em várias aplicações de sputtering. Ele é extraído e purificado por meio de operações de processamento avançadas. A Stanford Advanced Materials obtém materiais de alta qualidade de fornecedores confiáveis, garantindo a qualidade e a consistência de nossos produtos de alvo de pulverização.

2. Fabricação de alvos de pulverização

Vários métodos são usados para produzir alvos de pulverização de Mo, incluindo a metalurgia do pó. Cada método resulta em diferentes características de alvo, como densidade, estrutura de grãos e propriedades de superfície. O método de fabricação é selecionado com base nos requisitos da aplicação pretendida e nas especificações de desempenho.