ST7962 Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 4 polegadas

Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. 4 polegadas Descrição

Nosso alvo rotativo de molibdênio oferece desempenho excepcional por meio de sua composição 99,0% pura e diâmetro preciso de 4 polegadas. Conhecido por seu alto ponto de fusão, excelente condutividade térmica e notável resistência à corrosão, o molibdênio é a escolha preferida para ambientes exigentes em setores críticos. Esse alvo rotativo é fabricado sob rigorosos controles de produção, garantindo densidade uniforme e tamanho mínimo de grão para resultados confiáveis e repetíveis em processos de deposição de filmes finos.

Projetado para atender a elevados padrões de qualidade, esse alvo passa por testes rigorosos, incluindo verificação de pureza e verificações dimensionais, para garantir um desempenho consistente. Ele é adequado para aplicações como fabricação de semicondutores, revestimentos de superfície e projetos de pesquisa especializados, em que a longa vida útil e as propriedades superiores do filme são fundamentais. Escolha o nosso Molybdenum Rotary Target para se beneficiar de um material confiável e de alta pureza que sempre oferece revestimentos precisos e de alta qualidade.

Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. 4 polegadas Aplicações

Com um nível de pureza de 99% e um diâmetro robusto de 4 polegadas, esse alvo rotativo de molibdênio oferece desempenho excepcional em diversos setores de alta tecnologia. Conhecido por seu alto ponto de fusão, excelente condutividade térmica e eficiência superior de pulverização catódica, ele suporta o crescimento estável e uniforme do filme. Essas propriedades exclusivas abrem novas possibilidades para eletrônicos, componentes ópticos e muito mais.

1. aplicações de deposição de filmes finos

-Revestimento PVD: Maximiza a espessura e a pureza uniformes do filme devido à taxa de pulverização estável e à resiliência térmica do molibdênio.

-Magnetron Sputtering: Permite alto rendimento, excelente cobertura e forte adesão para filmes finos avançados.

2. aplicações de semicondutores

-Circuitos integrados: Facilita camadas de metalização de linha fina com o mínimo de defeitos.

-Componentes eletrônicos: Fornece camadas condutoras confiáveis e de alta pureza para dispositivos miniaturizados.

3. aplicações de revestimento óptico

-Revestimentos antirreflexo: Oferece deposição consistente para melhorar a clareza óptica e reduzir a reflexão.

-Revestimentos espelhados: Garantem superfícies duráveis, que aumentam a reflexão, com excelente estabilidade térmica.

Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. Embalagem de 4 polegadas

O Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 4 inch é cuidadosamente embalado usando caixas robustas de espuma protetora ou poliestireno para minimizar os danos causados pelo manuseio. O produto é selado a vácuo em bolsas resistentes à umidade, proporcionando proteção contra a oxidação. Para maior segurança e limpeza, cada peça é envolvida em filme plástico hermético, controlando a exposição a contaminantes. Configurações personalizadas de marca, rotulagem e embalagem estão disponíveis mediante solicitação, garantindo uma solução sob medida para as diversas necessidades do cliente.

Embalagem: Selado a vácuo, caixa de madeira ou personalizado.

Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. 4 polegadas Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 4 polegadas?

A1: Esse alvo rotativo de molibdênio de alta pureza apresenta excelente condutividade térmica, baixa expansão térmica e notável resistência à corrosão. Sua densidade é normalmente de cerca de 10,2 g/cm³, o que contribui para a estabilidade durante a pulverização catódica. Com uma pureza de 99%, ele mantém uma resistência mecânica superior em temperaturas elevadas. A microestrutura de granulação fina do alvo também minimiza as impurezas e garante uma erosão uniforme, tornando-o ideal para processos de deposição de filmes finos de alta qualidade.

P2: Como esse alvo de sputtering de Mo pode ser processado ou fabricado?

A2: Os métodos comuns de fabricação incluem metalurgia do pó, prensagem isostática a quente e forjamento rotativo. A metalurgia do pó envolve a compactação do pó de molibdênio sob alta pressão e temperatura, formando uma estrutura robusta e homogênea. A prensagem isostática a quente densifica ainda mais o material, eliminando a porosidade residual. Por fim, o forjamento rotativo consolida o formato do alvo, garantindo uma orientação consistente dos grãos. Essas etapas proporcionam propriedades mecânicas ideais e minimizam os defeitos no produto final.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 4 polegadas?

R3: As certificações típicas incluem a ISO 9001, que afirma práticas rigorosas de gerenciamento de qualidade em toda a produção. Em muitos casos, as especificações ASTM B386 descrevem a composição química e os padrões de propriedade mecânica do molibdênio. Medidas adicionais de inspeção geralmente envolvem testes ultrassônicos para detectar falhas internas e microscopia eletrônica de varredura para confirmar a estrutura uniforme dos grãos. Juntos, esses padrões e certificações garantem desempenho confiável, rastreabilidade e consistência do alvo rotativo em aplicações exigentes.

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1. Matérias-primas - Materiais de Mo

O Mo é um material valioso usado em várias aplicações de sputtering. Ele é extraído e purificado por meio de operações de processamento avançadas. A Stanford Advanced Materials obtém materiais de alta qualidade de fornecedores confiáveis, garantindo a qualidade e a consistência de nossos produtos de alvo de pulverização.

2. Fabricação de alvos de pulverização

Vários métodos são usados para produzir alvos de pulverização de Mo, incluindo a metalurgia do pó. Cada método resulta em diferentes características de alvo, como densidade, estrutura de grãos e propriedades de superfície. O método de fabricação é selecionado com base nos requisitos da aplicação pretendida e nas especificações de desempenho.