ST7965 Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 5 polegadas

Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. 5 polegadas Descrição

O Molybdenum Rotary Target 99% com diâmetro de 5 polegadas é um material de sputtering robusto e de alto desempenho projetado para aplicações que exigem estabilidade térmica superior e resistência à corrosão. Com pureza de 99,0%, esse alvo garante contaminação mínima para deposição precisa e consistente em processos avançados de revestimento. O notável ponto de fusão, a baixa pressão de vapor e a excelente condutividade do molibdênio o tornam ideal para uso em semicondutores, telas, painéis solares e outros setores de fabricação de alta tecnologia.

Cada alvo é meticulosamente fabricado sob rigorosos padrões de qualidade, garantindo uma microestrutura uniforme e um desempenho confiável quando exposto a temperaturas extremas e condições operacionais adversas. Nosso compromisso com o controle de qualidade permite que você obtenha resultados de sputtering estáveis e repetíveis e, ao mesmo tempo, reduza o tempo de inatividade e o desperdício de material. Escolha nosso Molybdenum Rotary Target para obter uma solução confiável que atenda aos seus requisitos mais exigentes.

Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. 5 polegadas Aplicações

Os alvos rotativos de molibdênio com 99% de pureza são conhecidos por sua excepcional estabilidade térmica, resistência à corrosão e excelente condutividade. Usados extensivamente em processos de deposição de filmes finos, esses alvos oferecem desempenho confiável em ambientes de alto vácuo. Com um diâmetro de 5 polegadas, eles permitem a deposição uniforme de filmes em várias aplicações industriais. Suas propriedades superiores os tornam ideais para a fabricação avançada de eletrônicos, ópticos e semicondutores.

1. aplicações de deposição de filmes finos

-Revestimento PVD: O alto ponto de fusão e a resistência mecânica do molibdênio garantem camadas duráveis e de alta pureza em processos de deposição física de vapor.

-Magnetron Sputtering: As taxas consistentes de pulverização de Mo proporcionam um controle confiável da espessura do filme, essencial para montagens de dispositivos avançados.

2. aplicações de semicondutores

-Circuitos integrados: Os filmes de Mo suportam caminhos condutores precisos e reduzem a eletromigração, melhorando o desempenho e a vida útil do circuito.

-Componentes eletrônicos: Os revestimentos de Mo estáveis e de baixa contaminação ajudam a obter transistores, capacitores e dispositivos de memória confiáveis com resistência operacional prolongada.

3. aplicações de revestimento óptico

-Revestimentos antirreflexo: A característica de pulverização uniforme do Mo garante espessura consistente e desempenho óptico em revestimentos AR.

-Revestimentos espelhados: a estabilidade química e a forte adesão do molibdênio produzem superfícies refletivas altamente eficientes e duradouras em ambientes exigentes.

Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. 5 polegadas Embalagem

Enviado em filme plástico selado e amortecido com espuma de polietileno, cada alvo rotativo de molibdênio é colocado em uma barreira selada a vácuo para inibir a oxidação. A embalagem externa robusta integra materiais de absorção de choque e garante a integridade do produto durante o transporte. Para proteção adicional, um pacote de dessecante é incluído para manter a secura. Etiquetagem personalizada, dimensões do contêiner e camadas protetoras especiais estão disponíveis mediante solicitação para atender às suas necessidades específicas de manuseio e armazenamento.

Embalagem: Selado a vácuo, caixa de madeira ou personalizado.

Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. 5 polegadas Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 5 polegadas?

A1: Esse alvo de molibdênio de alta pureza oferece excelente condutividade térmica, um ponto de fusão de aproximadamente 2.623°C e uma densidade de cerca de 10,2 g/cm³. Seu nível de pureza (mínimo de 99%) ajuda a minimizar as impurezas durante os processos de deposição, melhorando a qualidade do revestimento e reduzindo os riscos de contaminação. O alvo também mantém excepcional resistência mecânica e estabilidade dimensional em temperaturas elevadas, o que o torna adequado para aplicações industriais exigentes de sputtering e filmes finos.

P2: Como esse alvo de sputtering de Mo pode ser processado ou fabricado?

A2: O processamento típico começa com pó de molibdênio de alta pureza que passa por técnicas de metalurgia do pó, incluindo prensagem e sinterização sob vácuo ou condições atmosféricas controladas. Em seguida, o material é laminado a quente ou forjado por rotação para atingir o diâmetro e a densidade desejados. As etapas de pós-processamento podem envolver usinagem ou retificação para garantir geometria uniforme e tolerâncias dimensionais precisas. Por fim, o tratamento térmico pode ser aplicado para refinar a estrutura do grão e otimizar as propriedades mecânicas.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 5 polegadas?

R3: Em geral, esses alvos seguem as especificações ASTM B386 para materiais de molibdênio, que descrevem os requisitos de composição e propriedades mecânicas. Os fabricantes geralmente mantêm a certificação ISO 9001 para gerenciamento de qualidade, garantindo controles de processo e rastreabilidade. Outras certificações de terceiros podem ser obtidas para validar a pureza, a densidade e o acabamento da superfície. Esses padrões garantem desempenho consistente, conformidade com as normas do setor e propriedades confiáveis do material para processos de sputtering ou de deposição de filmes finos.

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O Mo é um material valioso usado em várias aplicações de sputtering. Ele é extraído e purificado por meio de operações de processamento avançadas. A Stanford Advanced Materials obtém materiais de alta qualidade de fornecedores confiáveis, garantindo a qualidade e a consistência de nossos produtos de alvo de pulverização.

2. Fabricação de alvos de pulverização

Vários métodos são usados para produzir alvos de pulverização de Mo, incluindo a metalurgia do pó. Cada método resulta em diferentes características de alvo, como densidade, estrutura de grãos e propriedades de superfície. O método de fabricação é selecionado com base nos requisitos da aplicação pretendida e nas especificações de desempenho.