NBH0056 Alvos / discos de liga de nióbio e háfnio

Descrição dos alvos de liga de nióbio e háfnio

A liga de nióbio e háfnio tem um ponto de fusão excessivo, anticorrosão de primeira linha e capacidade de trabalho. A liga de nióbio e háfnio pode ser usada em farmácia, semicondutores, aviação, nuclear e assim por diante. Os alvos de sputtering de alta pureza desempenham um papel importante nos processos de deposição para garantir a alta qualidade do filme depositado. A Stanford Advanced Materials (SAM) é especializada na produção de alvos de liga de nióbio e háfnio com pureza de até 99,95%, usando processos de garantia de qualidade para assegurar a confiabilidade do produto.

Especificação dos alvos de liga de nióbio e háfnio

Alvos de liga de nióbio e háfnio Aplicação

1. Fabricação de semicondutores: Usados como alvos de pulverização na produção de dispositivos semicondutores, como circuitos integrados (ICs), transistores e diodos.

2. Armazenamento de dados: Empregado na fabricação de mídia de gravação magnética, como unidades de disco rígido (HDDs) e fita magnética, para aplicações de armazenamento de dados de alta densidade.

3. Revestimentos ópticos: Aplicados na deposição de filmes finos para componentes ópticos, lentes, espelhos e filtros usados em lasers, instrumentos ópticos e dispositivos de telecomunicações.

4. Células solares: Utilizado na produção de células solares de filme fino para aplicações fotovoltaicas devido à sua excelente condutividade e estabilidade.

Embalagem de alvos de liga de nióbio e háfnio

Nossos alvos de liga de nióbio e háfnio são cuidadosamente manuseados para evitar danos durante o armazenamento e o transporte e para preservar a qualidade de nossos produtos em sua condição original.

Perguntas frequentes

P1: Como são fabricados os alvos/discos de liga de nióbio e háfnio?

A1: Os discos e alvos de liga de nióbio e háfnio são produzidos por meio do seguinte processo:

Fusão a arco a vácuo (VAM) ou fusão por feixe de elétrons (EBM): Esses processos são usados para criar uma liga de nióbio e háfnio em um ambiente controlado, garantindo uma composição uniforme.

Usinagem: A liga é então usinada em discos ou alvos com dimensões precisas e um acabamento de superfície suave.

Polimento e limpeza: Após a usinagem, os discos ou alvos são polidos e limpos para remover quaisquer impurezas e prepará-los para uso em aplicações de sputtering.

P2: Quais setores utilizam alvos/discos de liga de nióbio e háfnio?

A2: Os discos e alvos de liga de nióbio e háfnio são usados em uma ampla variedade de setores, incluindo

Semicondutores: Para deposição de película fina na produção de circuitos integrados, fotônica e microeletrônica.

Aeroespacial: Para revestimentos de alta temperatura e aplicações em lâminas de turbinas, motores a jato e equipamentos de exploração espacial.

Nuclear: em reatores e conjuntos de combustível, onde os materiais devem suportar altos níveis de radiação e temperaturas extremas.

Defesa: Para tecnologia militar que exige revestimentos e peças duráveis e de alto desempenho.

Ótica: Na produção de revestimentos de película fina para lentes, espelhos e dispositivos ópticos.

Energia: Para sistemas de geração de energia, incluindo revestimentos para lâminas de turbinas e outros componentes de alto desempenho.

P3: Como os alvos/discos de liga de nióbio e háfnio devem ser manuseados e armazenados?

R3: Manuseio: Manuseie com cuidado para evitar contaminação ou danos à superfície. Sempre use luvas para evitar a transferência de óleos ou sujeira para a superfície, o que poderia afetar o processo de pulverização catódica.

Armazenamento: Armazene os discos e alvos de liga de nióbio e háfnio em um ambiente limpo, seco e fresco para evitar oxidação ou contaminação. Eles devem ser mantidos em embalagens protetoras para evitar arranhões ou danos.

Evite umidade: Certifique-se de que a área de armazenamento esteja livre de umidade excessiva, pois a umidade pode causar oxidação com o tempo.