ST0121 Alvo de Sputtering de Vanádio Tungstênio (V/W)

Descrição do Alvo de Sputtering de Tungstênio Vanádio (V/W)

O Alvo de Sputtering de Tungstênio Vanádio (V/W) é projetado para deposição de filmes finos de alta precisão e processamento avançado de materiais. Utilizando material V/W premium com pureza de ≥99%, este alvo suporta desempenho consistente de sputtering e está disponível em discos ou formas personalizadas para atender a requisitos específicos de processo. Suas opções de ligação exclusivas, apresentando índio e elastômero, garantem integração mecânica confiável, tornando-o uma escolha ideal para aplicações críticas em fabricação de semicondutores e revestimentos ópticos.

Aplicações do Alvo de Sputtering de Tungstênio Vanádio (V/W)

· Deposição de Filmes Finos: Ideal para fabricação de filmes de alta qualidade usados em microeletrônica e dispositivos ópticos.
· Processamento de Semicondutores: Oferece alta confiabilidade e uniformidade, essenciais para dispositivos semicondutores modernos.
· Revestimentos Superficiais: Ideal para revestimentos avançados em aplicações industriais que exigem alta precisão e durabilidade.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Formas personalizadas permitem soluções sob medida para configurações experimentais inovadoras e desenvolvimento de protótipos.

Embalagem do Alvo de Sputtering de Tungstênio Vanádio (V/W)

Nosso Alvo de Sputtering de Tungstênio Vanádio (V/W) é embalado com o máximo cuidado para preservar sua qualidade durante armazenamento e transporte.
· Embalagem padrão: Selado de forma segura em embalagem protetora para prevenir contaminação e danos mecânicos.
· Opções de embalagem personalizadas disponíveis mediante solicitação para atender a requisitos específicos de manuseio e logística.

Perguntas Frequentes

P: O que distingue um alvo de sputtering V/W de outros alvos de sputtering?
R: O alvo de sputtering V/W fornece propriedades metálicas únicas e alta estabilidade química, tornando-o ideal para aplicações de deposição de filmes finos de alto desempenho.

P: A forma do alvo de sputtering pode ser personalizada?
R: Sim, o alvo está disponível em forma de disco ou pode ser feito sob medida para atender a requisitos específicos de design e processo.

P: Quais são as opções de ligação disponíveis para este produto?
R: O alvo apresenta ligação com índio e elastômero, garantindo fixação segura sob várias condições operacionais.

P: Como o nível de pureza impacta o desempenho do sputtering?
R: Uma pureza de ≥99% garante contaminação mínima durante o processo de deposição, resultando em filmes finos de alta qualidade e uniformidade.

P: Quais indústrias podem se beneficiar mais do uso do alvo V/W?
R: Indústrias como fabricação de semicondutores, óptica e microeletrônica se beneficiam significativamente devido à precisão, confiabilidade e opções de personalização do alvo.