Descontinuado (Descontinuado) Alvo de Sputtering de Fluoreto de Disprósio (DyF₃) ST0240

Descrição do Alvo de Sputtering Fluoreto de Disprósio (DyF₃)

O Alvo de Sputtering Fluoreto de Disprósio (DyF₃) é projetado para processos de sputtering de alta precisão em aplicações industriais avançadas. Fabricado com uma pureza de ≥99%, este alvo garante desempenho confiável e deposição uniforme de filmes, tornando-o particularmente adequado para fabricação de semicondutores, tecnologia de displays e aplicações de recobrimento especializadas. Seu alto ponto de fusão e propriedades químicas estáveis garantem durabilidade e consistência mesmo em condições de processamento extremas.

Aplicações do Alvo de Sputtering Fluoreto de Disprósio (DyF₃)

· Fabricação de Semicondutores: Proporciona deposição uniforme de filmes finos, crítica para a fabricação de circuitos integrados e dispositivos.
· Fabricação de Displays: Facilita a produção de displays de painel plano de alta resolução e telas OLED.
· Aplicações de Recobrimento: Usado na deposição de recobrimentos duráveis e robustos em dispositivos ópticos e eletrônicos.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Ideal para desenvolvimento de protótipos e estudos avançados de materiais explorando técnicas de sputtering de próxima geração.

Embalagem do Alvo de Sputtering Fluoreto de Disprósio (DyF₃)

Nossos Alvos de Sputtering Fluoreto de Disprósio (DyF₃) são embalados com o máximo cuidado para manter sua alta pureza e desempenho. A embalagem padrão envolve contêineres selados a vácuo que protegem os alvos da umidade e contaminantes ambientais. Opções de embalagem personalizadas também estão disponíveis para atender a requisitos industriais específicos.

Perguntas Frequentes

P: Quais aplicações se beneficiam mais do uso de um Alvo de Sputtering Fluoreto de Disprósio (DyF₃)?
R: É utilizado principalmente em processamento de semicondutores, fabricação de displays e aplicações de recobrimento de precisão, onde o desempenho consistente de deposição é crítico.

P: Como a alta pureza do alvo DyF₃ é garantida?
R: O alvo é produzido sob rigorosos controles de qualidade utilizando processos avançados de purificação, garantindo um nível de pureza de ≥99%.

P: Quais vantagens um alvo DyF₃ oferece em processos de sputtering?
R: Sua excelente estabilidade química, alto ponto de fusão e propriedades de sputtering uniforme contribuem para a qualidade e confiabilidade consistentes do filme em aplicações de alta tecnologia.

P: Existem formas ou tamanhos personalizados disponíveis para este alvo de sputtering?
R: Sim, o produto pode ser fornecido na forma de discos ou feito sob especificações personalizadas para atender a requisitos específicos da indústria.

P: Como os Alvos de Sputtering Fluoreto de Disprósio (DyF₃) devem ser armazenados para garantir longevidade?
R: Eles devem ser armazenados em um ambiente fresco e seco, preferencialmente em embalagem selada a vácuo, para evitar contaminação e manter sua alta pureza ao longo do tempo.