ST0278 Alvo de Sputtering de Sulfeto de Germanio (GeS)

Descrição do Alvo de Sputtering de Sulfeto de Germânio (GeS)

O Alvo de Sputtering de Sulfeto de Germânio (GeS) é produzido com GeS de alta pureza (≥99%) e engenharia de precisão para atender às exigências rigorosas dos processos modernos de deposição de filmes finos. Projetado para as indústrias de semicondutores e eletrônicos, este alvo de sputtering proporciona desempenho consistente, com um ponto de fusão de 940℃ e uma densidade de 4,08 g/cm³. Suas formas personalizáveis, disponíveis como discos ou designs sob medida, garantem compatibilidade com uma ampla gama de sistemas de deposição. Este produto é ideal para aplicações que exigem produção de filmes confiável e uniforme em condições de alta temperatura.

Aplicações do Alvo de Sputtering de Sulfeto de Germânio (GeS)

· Fabricação de Semicondutores: Essencial para a fabricação de circuitos integrados e componentes eletrônicos com características precisas de filmes finos.
· Dispositivos Fotovoltaicos: Utilizado no processo de deposição para produzir células solares de alta eficiência.
· Deposição de Filmes Finos: Proporciona excelente uniformidade em revestimentos para sensores, dispositivos optoeletrônicos e camadas protetoras.
· Engenharia de Superfície: Permite modificações avançadas de superfície para aumentar a resistência ao desgaste e revestimentos funcionais.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Apoia a produção experimental e piloto em laboratórios de ciência de materiais.

Embalagem do Alvo de Sputtering de Sulfeto de Germânio (GeS)

Nossos Alvos de Sputtering de Sulfeto de Germânio (GeS) são embalados com cuidado para garantir que mantenham sua integridade durante o transporte e armazenamento.
· Embalagem Padrão: Discos selados a vácuo ou embalagem personalizada com base nas necessidades do cliente.
· Disponível em: Tamanhos personalizados de acordo com especificações específicas do cliente para garantir compatibilidade ideal com o equipamento de deposição.

Perguntas Frequentes

P: Quais indústrias normalmente utilizam alvos de sputtering de sulfeto de germânio?
R: Eles são utilizados principalmente na fabricação de semicondutores, produção de dispositivos fotovoltaicos e em aplicações avançadas de deposição de filmes finos em eletrônicos e engenharia de superfície.

P: Como a alta pureza (≥99%) do GeS afeta seu desempenho?
R: A alta pureza garante deposição de filmes consistente, minimiza a contaminação durante o processamento e contribui para o desempenho aprimorado do material em aplicações críticas.

P: Posso solicitar uma forma personalizada para o alvo de sputtering?
R: Sim, o produto está disponível em discos ou pode ser feito sob medida para atender aos requisitos específicos do sistema de deposição.

P: Quais fatores devem ser considerados ao integrar o alvo de sputtering GeS em um sistema de deposição?
R: Considerações importantes incluem o ponto de fusão do alvo, densidade e compatibilidade da forma do alvo com o design do equipamento de deposição.

P: Existem requisitos especiais de manuseio ou armazenamento para o alvo de sputtering GeS?
R: Recomenda-se armazenar o alvo em um ambiente limpo, seco e controlado em temperatura. A embalagem selada a vácuo ajuda a manter sua alta pureza e prevenir contaminação.