ST0280 Alvo de Sputtering de Sulfeto de Ferro (FeS)

Name: ST0280 Iron Sulfide (FeS) Sputtering Target
SKU: ST0280
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Número de catálogo.	ST0280
Composição	FeS
Número CAS	1317-37-9
Pureza	≥99% (99,9% disponível)
Forma	Discos ou personalizados
Sinônimos	Alvo de pulverização de sulfeto de ferro, alvo de FeS, alvo de pirrotita, alvo de monossulfeto de ferro

Alvos de sputtering de sulfeto de ferro (FeS) da Stanford Advanced Materials. Usado para pesquisa de baterias de estado sólido, filmes finos de semicondutores de sulfeto e revestimentos tribológicos. O FeS oferece propriedades semicondutoras (intervalo de banda de ~0,1 eV para Fe₁₋ₓS) e baixo coeficiente de atrito para aplicações de lubrificação sólida. Discos padrão de 2" a 6", ou tamanhos personalizados. Recomenda-se a pulverização por RF.

Produtos relacionados: Alvo de pulverização de ferro (Fe) | Alvo de pulverização de sulfeto de zinco (ZnS)| Alvo de pulverização de sulfeto de cobre (CuS) | Alvo de pulverização de sulfeto de lítio (Li₂S)

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FAQ

Devo usar pulverização catódica DC ou RF para alvos de FeS?

Recomenda-se a pulverização por RF. O FeS é um semicondutor com condutividade moderada; a corrente contínua pode causar acúmulo de carga e formação de arco. Se estiver usando CC, comece com baixa potência e monitore a formação de arcos.

O alvo de FeS liberará enxofre durante o sputtering?

Pode ocorrer alguma liberação de enxofre, especialmente em densidades de potência mais altas. Recomenda-se a ventilação adequada da câmara e a manutenção da bomba. Recomendamos a colagem do alvo para minimizar os pontos quentes que podem causar a evolução do enxofre.

O alvo de FeS precisa de ligação?

Sim, a ligação é recomendada. O FeS é um material composto frágil, e a ligação a uma placa de apoio de cobre melhora o gerenciamento térmico e evita rachaduras.

Que pureza é necessária para a pesquisa de baterias?

99% é suficiente para a maioria das aplicações tribológicas e de pesquisa básica. Recomenda-se 99,9% para pesquisas de baterias de estado sólido e dispositivos semicondutores, em que traços de impurezas podem afetar a condutividade iônica ou as propriedades eletrônicas.

Como devo armazenar o alvo FeS?

Armazene em um recipiente seco e vedado a vácuo. O FeS pode se oxidar quando exposto ao ar em temperaturas elevadas. Quando o selo a vácuo for rompido, minimize a exposição ao ar antes de instalá-lo em seu sistema de pulverização catódica.

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Material	Sulfeto de ferro (FeS)
Pureza	≥99% (99,9% disponível mediante solicitação)
Número CAS	1317-37-9
Cor/aparência	Cinza escuro a bronze
Ponto de fusão	1194°C
Densidade	4,84 g/cm³
Estrutura cristalina	Hexagonal (pirrotita)
Intervalo de banda (Fe₁₋ₓS)	~0,1 eV (semicondutor)
Método de pulverização	Preferencialmente RF (DC possível com cuidado)
Processo de fabricação	Sinterização por prensagem a quente + usinagem de precisão
Tipo de ligação	Índio, elastômero (recomendado)
Diâmetros padrão	2", 3", 4", 6"
Espessura	0,125", 0,250" ou personalizado
Embalagem	Selado a vácuo

Material	Sulfeto de ferro (FeS)
Pureza	≥99% (99,9% disponível mediante solicitação)
Número CAS	1317-37-9
Cor/aparência	Cinza escuro a bronze
Ponto de fusão	1194°C
Densidade	4,84 g/cm³
Estrutura cristalina	Hexagonal (pirrotita)
Intervalo de banda (Fe₁₋ₓS)	~0,1 eV (semicondutor)
Método de pulverização	Preferencialmente RF (DC possível com cuidado)
Processo de fabricação	Sinterização por prensagem a quente + usinagem de precisão
Tipo de ligação	Índio, elastômero (recomendado)
Diâmetros padrão	2", 3", 4", 6"
Espessura	0,125", 0,250" ou personalizado
Embalagem	Selado a vácuo

ST0280 Alvo de Sputtering de Sulfeto de Ferro (FeS)

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Especificação

Aplicações de alvos de pulverização de sulfeto de ferro (FeS)

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Especificação

SDS

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FAQ

Devo usar pulverização catódica DC ou RF para alvos de FeS?

O alvo de FeS liberará enxofre durante o sputtering?

O alvo de FeS precisa de ligação?

Que pureza é necessária para a pesquisa de baterias?

Como devo armazenar o alvo FeS?

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