ST0421 Óxido de Estrôncio (SrO) Alvo de Sputtering

Descrição do Alvo de Sputtering de Óxido de Estrôncio (SrO)

O Alvo de Sputtering de Óxido de Estrôncio (SrO) é um material de alta qualidade projetado para aplicações de precisão em processos industriais modernos. Fabricado com técnicas avançadas de fabricação, garante excelente pureza (≥99%) e composição uniforme, disponível em formas de disco padrão e designs personalizados. Com um ponto de fusão excepcional de 2531℃ e uma densidade de 4,7 g/cm³, este alvo é projetado para estabilidade térmica ideal e desempenho confiável em ambientes de sputtering exigentes. A incorporação de ligação de Índio e Elastômero melhora ainda mais sua durabilidade e eficiência de deposição, tornando-o um componente indispensável na fabricação de dispositivos eletrônicos e aplicações de filmes finos.

Aplicações do Alvo de Sputtering de Óxido de Estrôncio (SrO)

· Deposição por Sputtering: Ideal para a fabricação de filmes finos de alto desempenho em dispositivos eletrônicos.
· Revestimentos de Filmes Finos: Perfeito para revestimentos ópticos, fabricação de semicondutores e camadas protetoras.
· Microeletrônica: Crítico para processos de deposição em componentes de circuito miniaturizados.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Adequado para estudos que requerem estabilidade a altas temperaturas e precisão química.

Embalagem do Alvo de Sputtering de Óxido de Estrôncio (SrO)

Nossos Alvos de Sputtering de Óxido de Estrôncio (SrO) são embalados conforme protocolos rigorosos de controle de qualidade para garantir que cheguem em condições pristinas. A embalagem padrão inclui materiais protetores e ant estáticos com opções de embalagem a vácuo ou personalizada com base nas exigências dos clientes.

Perguntas Frequentes

Q: Quais são as principais características do Alvo de Sputtering de Óxido de Estrôncio (SrO)?
A: Possui alta pureza (≥99%), excelente estabilidade térmica e um design personalizável disponível como discos ou formas sob medida, garantindo desempenho ideal em aplicações de sputtering.

Q: Quais métodos de ligação são empregados no alvo?
A: O alvo utiliza ligação de Índio e Elastômero para manter a integridade mecânica e térmica durante o processo de sputtering.

Q: O Alvo de Sputtering de Óxido de Estrôncio (SrO) pode ser personalizado para aplicações específicas?
A: Sim, os alvos estão disponíveis em formas de disco padrão ou podem ser feitos sob medida para atender a requisitos de design especializados.

Q: Quais indústrias utilizam comumente este tipo de alvo de sputtering?
A: É amplamente utilizado em eletrônica, óptica, microeletrônica e laboratórios de pesquisa onde materiais de alta temperatura e alta pureza são essenciais.

Q: Como a qualidade e a pureza do alvo de SrO são garantidas?
A: Protocolos rigorosos de fabricação e medidas de controle de qualidade estão em vigor para garantir um nível de pureza de ≥99%, juntamente com propriedades consistentes do material para desempenho de sputtering ideal.