ST0435 Óxido de Níquel Europio (EuNiO3) Alvo de Sputtering

Descrição do Alvo de Sputtering de Óxido de Níquel de Europium (EuNiO3)

O Alvo de Sputtering de Óxido de Níquel de Europium (EuNiO3) é projetado para alta precisão em processos de deposição de filmes finos. Fabricado sob rigorosos controles de qualidade, o alvo mantém uma pureza de ≥99% e está disponível em formatos de disco padrão e opções personalizadas. Com uma densidade de 7,57 g/cm3 e um sistema de ligação especializado utilizando Índio e Elastômero, é projetado para fabricação avançada de semicondutores, sputtering de alta qualidade e aplicações de pesquisa de ponta.

Aplicações do Alvo de Sputtering de Óxido de Níquel de Europium (EuNiO3)

· Depositação de Filmes Finos: Permite a criação de filmes finos uniformes e de alta qualidade para processos de semicondutores.
· Fabricação de Semicondutores: Crítico para o crescimento controlado de filmes em dispositivos eletrônicos avançados.
· Optoeletrônica: Facilita o desenvolvimento de componentes ópticos de alto desempenho.
· Sistemas Microeletromecânicos (MEMS): Suporta a fabricação de dispositivos microescala intricados e estáveis.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Fornece uma fonte de material confiável para estudos experimentais em ciência de materiais avançados.

Embalagem do Alvo de Sputtering de Óxido de Níquel de Europium (EuNiO3)

Nossos Alvos de Sputtering de Óxido de Níquel de Europium (EuNiO3) são embalados com o máximo cuidado para preservar sua integridade durante o armazenamento e transporte. As opções incluem embalagem a vácuo ou soluções personalizadas para atender a requisitos específicos de envio, garantindo que o produto chegue em condições otimizadas.

Perguntas Frequentes

P: Qual é a composição deste alvo de sputtering?
R: O alvo é composto inteiramente por Óxido de Níquel de Europium (EuNiO3) com uma pureza de ≥99%.

P: As formas do alvo de sputtering são personalizáveis?
R: Sim, os alvos estão disponíveis na forma de disco padrão ou podem ser personalizados para atender a requisitos específicos de aplicação.

P: Qual é a densidade do alvo de sputtering de óxido de níquel de europium (EuNiO3)?
R: A densidade é de 7,57 g/cm3.

P: Quais materiais de ligação são utilizados neste alvo?
R: O alvo utiliza um sistema de ligação com Índio e Elastômero.

P: Como o produto é embalado para entrega segura?
R: O produto é embalado a vácuo ou utilizando soluções personalizadas para garantir que mantenha sua qualidade durante o envio.