ST0438 Al-Óxido de Índio e Alumínio e Óxido de Zinco (In2O3/Al2O3/ZnO) 65/16/19 wt% Alvo para Sputtering

Descrição do Alvo de Sputtering de Óxido de Alumínio, Índio e Zinco

O alvo de sputtering de Óxido de Alumínio, Índio e Zinco (In2O3/Al2O3/ZnO) 65/16/19 wt% é desenvolvido para processos de deposição por sputtering de precisão. Fabricado com uma pureza rigorosa de ≥99%, este alvo garante desempenho consistente e formação uniforme de filmes. Projetado para aplicações avançadas, proporciona excelente estabilidade durante a deposição e pode ser personalizado em discos ou outras formas para atender a exigências específicas de produção. Ideal para indústrias de alta tecnologia, este alvo de sputtering entrega confiabilidade e alta eficiência na fabricação de filmes finos.

Aplicações do Alvo de Sputtering de Óxido de Alumínio, Índio e Zinco

· Deposição de Filmes Finos: Amplamente utilizado para depositar camadas de óxido metálico em semicondutores e displays.
· Indústria Semicondutora: Essencial para a fabricação de circuitos integrados e dispositivos microeletrônicos avançados.
· Revestimentos Ópticos: Aplicado na produção de lentes e filtros ópticos com excepcional uniformidade.
· Células Solares: Utilizado na formação de camadas condutoras transparentes essenciais para aplicações fotovoltaicas.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Perfeito para configurações experimentais em ciência dos materiais e estudos de engenharia de superfícies.

Embalagem do Alvo de Sputtering de Óxido de Alumínio, Índio e Zinco

Nossos alvos de sputtering são cuidadosamente embalados para manter sua integridade e desempenho. Os produtos são selados a vácuo e assegurados em embalagens personalizadas projetadas para evitar contaminação, garantindo que cada alvo chegue em perfeitas condições para uso imediato.

Perguntas Frequentes

Q: Para que é utilizado um alvo de sputtering?
A: Um alvo de sputtering é utilizado em processos de deposição física de vapor para depositar filmes finos em substratos para eletrônicos, óptica e outras aplicações industriais.

Q: Como a pureza do alvo de sputtering afeta seu desempenho?
A: A maior pureza (≥99%) minimiza impurezas indesejadas durante a deposição, levando a propriedades de filme uniformes e melhor desempenho do dispositivo.

Q: O alvo pode ser personalizado em diferentes formas?
A: Sim, nosso produto está disponível em formas de disco padrão ou pode ser feito sob medida para atender a exigências industriais específicas.

Q: Quais indústrias se beneficiam do uso deste alvo de sputtering?
A: É amplamente utilizado na fabricação de semicondutores, produção de revestimentos ópticos, fabricação de células solares e diversas aplicações de P&D.

Q: Como o alvo de sputtering deve ser armazenado e manuseado?
A: O alvo deve ser armazenado em um ambiente limpo e seco, e manuseado com cuidado usando ferramentas apropriadas para evitar contaminação ou danos físicos.